[实用新型]带隙电路及电子设备有效

专利信息
申请号: 201821260256.6 申请日: 2018-08-06
公开(公告)号: CN208636736U 公开(公告)日: 2019-03-22
发明(设计)人: 王鹏;蔡杰杰;张广振;张文荣;罗鹏 申请(专利权)人: 上海晟矽微电子股份有限公司
主分类号: G05F1/56 分类号: G05F1/56
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 201203 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电阻 带隙电路 电连接 晶体管 输出端 本实用新型 反向输入端 正向输入端 电子设备 第一端 输出基准电压 运算放大器 工作电压 端接地 情景
【说明书】:

实用新型涉及带隙电路及电子设备,带隙电路包括:运算放大器,包括正向输入端、反向输入端及输出端,输出端用于输出基准电压;第一电阻、第二电阻、第三电阻及第四电阻,第一电阻的一端及第二电阻的一端电连接于输出端,第二电阻的另一端电连接于第三电阻的一端及所述反向输入端,第四电阻的一端电连接于第一电阻的另一端及所述正向输入端;第一晶体管及第二晶体管,第一晶体管包括第一端、第二端及第三端,第二晶体管包括第四端、第五端及第六端,第二端、第三端、第五端及所述第六端接地,第一端电连接于第三电阻的另一端,第四端电连接于所述第四电阻的另一端。本实用新型提出的带隙电路的工作电压范围广,大大增加了带隙电路的适用情景。

技术领域

本实用新型涉及集成电路技术领域,尤其涉及一种带隙电路及电子设备。

背景技术

针对微控制单元(Microcontroller Unit;MCU)的应用领域,根据不同客户应用,对芯片工作的电压范围要求也越来越高,例如由原来的直流5V电源供电改为电压较低的电池供电,原来的双节电池,改为单节电池供电等,大大降低的芯片的工作电压,要求芯片在更广的电压下都能正常工作。在传统5V工艺条件下,由于MOS管(metal oxidesemiconductor)阈值电压较高,传统的带隙一般工作在2V~5.5V,实现1.5V~5.5V的带隙存在较大的挑战。

实用新型内容

技术问题

有鉴于此,本实用新型要解决的技术问题是,如何拓宽工作电压范围。

解决方案

为了解决上述技术问题,根据本实用新型的一实施例,提供了一种带隙电路,所述带隙电路包括:

运算放大器,包括正向输入端、反向输入端及输出端,所述输出端用于输出基准电压;

第一电阻、第二电阻、第三电阻及第四电阻,所述第一电阻的一端及第二电阻的一端电连接于所述输出端,所述第二电阻的另一端电连接于所述第三电阻的一端及所述反向输入端,所述第四电阻的一端电连接于所述第一电阻的另一端及所述正向输入端;

第一晶体管及第二晶体管,所述第一晶体管包括第一端、第二端及第三端,所述第二晶体管包括第四端、第五端及第六端,所述第二端、所述第三端、所述第五端及所述第六端接地,所述第一端电连接于所述第三电阻的另一端,所述第四端电连接于所述第四电阻的另一端。

对于上述带隙电路,在一种可能的实施方式中,所述运算放大器还包括:

第一NMOS管,连接于所述正向输入端;

第二NMOS管,连接于所述反向输入端。

对于上述带隙电路,在一种可能的实施方式中,所述第一晶体管及所述第二晶体管为三极管,所述第一端、所述第二端、所述第三端分别为所述第一晶体管的发射极、基极及集电极,所述第四端、所述第五端及所述第六端分别为所述第二晶体管的发射极、基极及集电极。

对于上述带隙电路,在一种可能的实施方式中,所述第一晶体管的发射极面积是所述第二晶体管的发射极面积的N倍,其中,N为大于1的整数。

对于上述带隙电路,在一种可能的实施方式中,所述第三电阻可包括串联连接的第六电阻及第七电阻。

对于上述带隙电路,在一种可能的实施方式中,所述基准电压是根据所述第一电阻、所述第四电阻及所述第七电阻的电阻值确定的。

对于上述带隙电路,在一种可能的实施方式中,通过如下公式确定所述基准电压:

VREF=VEB1+(VT*ln(N))*(R1+R4)/R7,

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海晟矽微电子股份有限公司,未经上海晟矽微电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821260256.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top