[实用新型]用于近红外窄带滤光片的AR膜层及滤光片有效
| 申请号： | 201821255167.2 | 申请日： | 2018-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN208421290U | 公开（公告）日： | 2019-01-22 |
| 发明（设计）人： | 陈策;丁维红;肖念恭;陈吉利 | 申请（专利权）人： | 信阳舜宇光学有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20 |
| 代理公司： | 北京谨诚君睿知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11538 | 代理人： | 陆鑫;延慧 |
| 地址： | 464000 河南*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 折射率材料层 滤光片 折射率 红外窄带滤光片 本实用新型 膜层附着力 折射率材料 玻璃基板 近红外光 透过率 镀制 膜层 制作 保证 | ||
1.一种用于近红外窄带滤光片的AR膜层，所述AR膜层(1)镀制所述滤光片的玻璃基板(2)上，其特征在于，所述AR膜层(1)包括第一折射率材料层和第二折射率材料层或者包括第一折射率材料层、第二折射率材料层和第三折射率材料层；
所述第三折射率材料层的折射率大于所述第一折射率材料层折射率，所述第二折射率材料层的折射率大于所述第三折射率材料层的折射率。
2.根据权利要求1所述的AR膜层，其特征在于，沿远离所述玻璃基板(2)的方向，所述AR膜层(1)的最外层为第一折射率材料层。
3.根据权利要求2所述的AR膜层，其特征在于，沿着远离所述玻璃基板(2)的方向，所述AR膜层(1)的结构依次为(LH)*q、L，其中，L表示第一折射率材料层、H表示第二折射率材料层，(LH)*q表示第一折射率材料层和第二折射率材料层交替设置q次，q为大于等于1的整数。
4.根据权利要求2所述的AR膜层，其特征在于，沿着远离所述玻璃基板(2)的方向，所述AR膜层(1)的结构依次为M、(LH)*k、L，其中M表示第三折射率材料层、L表示第一折射率材料层、H表示第二折射率材料层，(LH)*k表示第一折射率材料层和第二折射率材料层交替设置k次，k为大于等于1的整数。
5.根据权利要求2所述的AR膜层，其特征在于，沿着远离所述玻璃基板(2)的方向，所述AR膜层(1)的结构依次为(LH)*n、L、M、(LH)*p、L，其中，L表示第一折射率材料层、H表示第二折射率材料层，(LH)*n表示第一折射率材料层和第二折射率材料层交替设置n次，n为大于等于0的整数,(LH)*p表示第一折射率材料层和第二折射率材料层交替设置p次，p为大于等于1的整数。
6.根据权利要求3-5任一项所述的AR膜层，其特征在于，所述第二折射率材料层物理厚度与所述第一折射率材料层物理厚度满足关系式：0.05≤DL/DH≤20，所述第三折射率材料层物理厚度与所述第二折射率材料层物理厚度满足关系式：0.02≤DM/DH≤50。
7.根据权利要求1所述的AR膜层，其特征在于，所述第二折射率材料层为氢化硅层，在800-1200nm波长范围内的折射率大于3，消光系数小于0.002；
所述第二折射率材料层在850nm处折射率大于3.6，在940nm处折射率大于3.55。
8.根据权利要求7所述的AR膜层，其特征在于，所述氢化硅层为溅射反应镀制材料层，溅射温度范围为80-300摄氏度、氢气流量为10-50sccm、溅射速率为0.1nm/s-1nm/s。
9.根据权利要求1所述的AR膜层，其特征在于，在800-1200nm波长范围内，所述第三折射率材料层的折射率小于4，所述第一折射率材料层的折射率小于3。
10.根据权利要求1所述的AR膜层，其特征在于，所述AR膜层(1)在350-1200nm波长范围内具有一个通带波段、一个截止波段和一个过渡波段，沿着从350nm至1200nm的方向，所述截止波段、所述过渡波段和所述通带波段顺序排布；
所述通带波段的透过率大于90％；
所述过渡波段的透过率为0.1％-90％；
所述截止波段的透过率小于0.1％。
11.一种包含权利要求1-10任一项所述的AR膜层的滤光片，其特征在于，包括玻璃基板(2)和镀制在所述玻璃基板(2)上的AR膜层(1)。
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