[实用新型]一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔

权利要求书

1.一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔，其特征在于，包括洗涤塔本体、喷淋系统及回风系统，所述洗涤塔本体包括废气入口（1）、废气出口（2）及塔身（3），所述废气入口（1）设置于塔身（3）左侧、所述废气出口（2）设置于塔身（3）右侧，所述喷淋系统包括喷头（4）、供液管（5）及供液泵（6），所述喷头（4）设置于塔身（3）顶部，所述供液泵（6）设置于塔身（3）外部，所述供液管（5）分别与喷头（4）及供液泵（6）连接，所述回风系统包括风管（7）及风机（8），所述风管（7）一端与塔身（3）顶部右侧连接、另一端与废气入口（1）顶部连接，所述风机（8）设置于风管（7）中段。

2.根据权利要求1所述的一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔，其特征在于，所述风管（7）内设有防腐蚀涂层。

3.根据权利要求1所述的一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔，其特征在于，所述风管（7）与塔身（3）连接处设有通风罩（9），所述通风罩（9）呈块状，所述通风罩（9）内设有若干风道（10）。

4.根据权利要求3所述的一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔，其特征在于，所述风道（10）横截面积呈Z型。

5.根据权利要求3所述的一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔，其特征在于，所述通风罩（9）沿风道（10）方向倾斜设置。

6.根据权利要求3所述的一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔，其特征在于，所述通风罩（9）两侧设有凸型滑轨（11），所述塔身（3）设有与凸型滑轨（11）配合的凹型滑槽。

7.根据权利要求1所述的一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔，其特征在于，所述风管（7）内设有吸水纱网。