[实用新型]一种半导体废气处理设备反应腔体支架

权利要求书

1.一种半导体废气处理设备反应腔体支架，包括安装板(6)和承托板(11)，所述承托板(11)固定焊接在反应腔(1)的腔体外侧壁上，其特征在于：所述承托板(11)包括弧形板，弧形板焊接在反应腔(1)的腔体外侧壁上，且弧形板的上下两端均一体设置连接板，所述连接板通过贯穿设置螺栓连接手臂(2)，所述手臂(2)的下端一侧设置突出设置定位柱(21)；

所述安装板(6)的侧壁上焊接两个固定板(61)，且安装板(6)在靠近固定板(61)的一侧底端焊接固定座，所述固定座上通过螺栓安装有千斤顶(8)，两个固定板(61)之间插入第一支撑架(4)的一端，所述第一支撑架(4)的两侧均贯穿设置穿孔，所述固定板(61)与第一支撑架(4)一侧的穿孔均贯穿设置定位销二(7)，所述定位销二(7)与第一支撑架(4)的一侧均贯穿设置锁销孔(41)，且定位销二(7)与第一支撑架(4)通过穿插在锁销孔(41)中的锁销固定，所述第一支撑架(4)的另一侧设置第二支撑架(3)，所述第二支撑架(3)的两侧均设置穿孔，所述第二支撑架(3)一侧的两端交错位于第一支撑架(4)的远离安装板(6)的两端上方，且第二支撑架(3)与第一支撑架(4)相互靠近的穿孔中穿插定位销一(5)，所述定位销一(5)的顶端设置限位台；

所述第二支撑架(3)远离第一支撑架(4)一端设置的穿孔中自上而下插接定位柱(21)，且千斤顶(8)的顶端接触连接定位销二(7)的下端面。

2.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理设备反应腔体支架，其特征在于：所述第一支撑架(4)呈“匚”字型设置，且第一支撑架(4)的中部一体连接有加强杆。

3.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理设备反应腔体支架，其特征在于：所述第二支撑架(3)呈“工”字型设置，且第二支撑架(3)中部设置的加强杆设置为两根。

4.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理设备反应腔体支架，其特征在于：所述定位销一(5)与限位台为一体成型结构设置。

5.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理设备反应腔体支架，其特征在于：所述定位销一(5)与定位销二(7)的直径均不小于1cm。

6.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理设备反应腔体支架，其特征在于：所述定位销一(5)分布与第二支撑架(3)、第一支撑架(4)连接位置设置塑料衬套，所述定位销二(7)与安装板(6)的连接位置设置塑料衬套。