[实用新型]一种纳滤膜的生产装置

权利要求书

1.一种纳滤膜的生产装置，其特征在于，包括：

基膜制膜液储罐（1），用于存放制备基膜的制膜液；

刮膜机（2），连接于基膜制膜液储罐（1），用于将制膜液刮涂成膜状；

牵拉辊（3），用于牵拉刮膜机（2）中得到的基膜；

相变槽（4），用于对牵拉辊（3）中拉出的基膜进行相变处理；

清洗槽（6），用于对相变槽（4）中经过相变处理的基膜进行清洗；

第一收卷辊（8），用于对清洗槽（6）中经过清洗后的基膜进行收卷； 水相槽（9），用于对第一收卷辊（8）接收的基膜进行浸润界面聚合法制纳滤膜的水相溶液处理；

油相槽（11），用于对水相槽（9）中浸润过水相溶液的基膜进行浸润界面聚合法制纳滤膜的油相溶液处理；

漂洗槽（13），用于对油相槽（11）中经过界面聚合反应的纳滤膜进行漂洗；

甘油槽（15），用于对漂洗槽（13）中得到的纳滤膜进行甘油浸泡处理；

烘干装置（19），用于对甘油槽（15）中经过甘油浸泡处理的纳滤膜进行烘干处理；

第二收卷辊（20），用于对烘干装置（19）中得到的纳滤膜进行收卷。

2.根据权利要求1所述的纳滤膜的生产装置，其特征在于，还包括：风刀（18），用于对水相槽（9）中得到的基膜进行吹扫，除去表面的水相溶液。

3.根据权利要求1所述的纳滤膜的生产装置，其特征在于，还包括：第一纠偏装置（16），连接于第一收卷辊（8），用于对收卷得到的基膜过程进行纠偏处理；第一激光传感器（17），连接于第一纠偏装置（16），用于对第一收卷辊（8）上发射激光并接收反射光，并将信号反馈于第一纠偏装置（16）。

4.根据权利要求1所述的纳滤膜的生产装置，其特征在于，还包括：第二纠偏装置（21），连接于第二收卷辊（20），用于对收卷得到的基膜过程进行纠偏处理；第二激光传感器（22），连接于第二纠偏装置（21），用于对第二收卷辊（20）上发射激光并接收反射光，并将信号反馈于第二纠偏装置（21）。

5.根据权利要求1所述的纳滤膜的生产装置，其特征在于，还包括：第一辊（5），用于对牵拉辊（3）中拉出的基膜进行拉动，并使基膜能够浸没于相变槽（4）中。

6.根据权利要求1所述的纳滤膜的生产装置，其特征在于，还包括：第二辊（7），用于对相变槽（4）中经过相变处理的基膜进行拉动，并使基膜能够浸没于清洗槽（6）中。

7.根据权利要求1所述的纳滤膜的生产装置，其特征在于，还包括：第三辊（10），用于对第一收卷辊（8）接收的基膜进行拉动，并使基膜能够浸没于水相槽（9）中。

8.根据权利要求1所述的纳滤膜的生产装置，其特征在于，还包括：第四辊（12），用于对水相槽（9）中得到的基膜进行拉动，并使基膜能够浸没于油相槽（11）中。

9.根据权利要求1所述的纳滤膜的生产装置，其特征在于，还包括：第五辊（14），用于对油相槽（11）中得到的纳滤膜进行拉动，并使纳滤膜能够浸没于漂洗槽（13）中。