[实用新型]一种压敏电阻器浸涂装置有效

专利信息
申请号: 201821162095.7 申请日: 2018-07-20
公开(公告)号: CN208878930U 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 张旭 申请(专利权)人: 成都铁达电子股份有限公司
主分类号: B05C3/09 分类号: B05C3/09;B05C11/10;H01C17/00
代理公司: 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 代理人: 白桂林;马林中
地址: 611743 四川省成都市*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 浸涂槽 浸涂 压敏电阻器 浸涂装置 回收槽 本实用新型 回收空间 回收装置 自动加料 浸料 外周面 溢流口 企业利润 电阻 竖直 外周 围设 连通 保证 节约
【说明书】:

实用新型涉及电阻浸涂装置领域,更具体的是涉及一种压敏电阻器浸涂装置。其包括浸涂槽和围设于浸涂槽外周回收槽,浸涂槽内形成浸涂空间,浸涂槽外周面与回收槽形成回收空间,压敏电阻器浸涂装置还包括自动加料回收装置,自动加料回收装置分别与浸涂空间和回收空间连通,浸涂槽在竖直方向上高度大于回收槽,浸涂槽上开设有溢流口。本实用新型提供的一种压敏电阻器浸涂装置,其保证在浸涂中浸料高度的一致性,杜绝浸涂漏瓷或浸涂过高问题,对压敏电阻器浸涂效果好,此外其对浸料进行循环,保证效果的同时节约了成本,增加企业利润。

技术领域

本实用新型涉及电阻浸涂装置领域,更具体的是涉及一种压敏电阻器浸涂装置。

背景技术

压敏电阻是一种具有非线性伏安特性的电阻器件,主要用于在电路承受过压时进行电压嵌位,吸收多余的电流以保护敏感器件。利用压敏电阻的非线性特性,当过电压出现在压敏电阻的两极间,压敏电阻可以将电压钳位到一个相对固定的电压值从而实现对后级电路的保护,所以压敏电阻是一种限压型保护器件。

在实际使用过程中,压敏电阻可能承受较大的浪涌冲击,导致其发热甚至失效,这要求其本体与电路中其他电子元器件进行隔离防止压敏电阻本体失效后影响周围电路。压敏电阻器在传统封装中,多采用浸料(粉末、液体绝缘材料)进行封装,以达到阻燃隔离、绝缘防潮、防腐以及抵抗恶劣温度变化等性能要求。

在压敏电阻器制造过程中,如果浸涂高度过低就会导致压敏电阻瓷体外露,外露瓷体可能在使用环境中附着导电介质。当浪涌冲击时,可能由于电流过大会造成压敏电阻器拉弧击穿,导致周围电路失效,甚至造成喷火引发灾害事故。如果浸封高度过高,浸封材料包裹引线,这将造成压敏电阻器在电路连接中存在虚焊等焊接不良。当浪涌冲击时,可能使虚焊位置拉弧,烧坏运行中的其他电子元器件,导致整个电路系统损坏。

现行技术中一般通过增加浸涂设备精度或增加人工测量调试来控制浸涂高度。现行浸涂设备多采用传感器感知浸料高度上下限来提高浸涂设备精度,以提示员工加减料或自动加浸料。

现行工艺会因为产品体积不同,浸涂时体积较大产品浸封料会上升较多,高度不易控制;体积较小产品浸封料相对上升较少,高度可控。又会因操作员工的不同,其责任心以及操作熟练度差异导致浸涂高度不稳定,增加人工测量调试不仅会使制造成本上升,并且浸涂高度不一致的问题也不能完全杜绝。现行浸涂设备多采用传感器感知浸料高度上下限来提高浸涂设备精度,以提示员工加减料或自动加浸料。即使再高精度的设备都会在浸封产品变化过程时,会造成浸涂高度均会有一定的波动。

实用新型内容

本实用新型的目的在于:针对现有技术中在电阻器的浸涂中,浸涂高度均有一定的波动的问题,提供了一种压敏电阻器浸涂装置。

本实用新型为了实现上述目的具体采用以下技术方案:

一种压敏电阻器浸涂装置,其包括浸涂槽和围设于所述浸涂槽外周回收槽;所述浸涂槽内形成浸涂空间;所述浸涂槽外周面与所述回收槽形成回收空间;所述压敏电阻器浸涂装置还包括自动加料回收装置;所述自动加料回收装置分别与所述浸涂空间和所述回收空间连通;所述浸涂槽在竖直方向上高度大于所述回收槽;所述浸涂槽上开设有溢流口。

进一步的,所述溢流口的底部在竖直方向上高于所述回收槽。

进一步的,所述压敏电阻器浸涂装置还包括导流结构;所述导流结构与所述浸涂槽连接;所述导流结构被构造成用于将所述浸涂空间与所述回收空间连通。

进一步的,所述自动加料装置包括依次连接的回收管、泵体和加料管;所述回收管与所述回收空间连通;所述加料管与所述浸涂空间连通;所述泵体用于控制流体由所述回收管流向所述加料管。

一种压敏电阻器浸涂装置的浸料,用于添加至上述压敏电阻器浸涂装置的浸涂空间和所述回收空间内;压敏电阻器浸涂装置的浸料为液态状、粉末状或胶体状。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都铁达电子股份有限公司,未经成都铁达电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821162095.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top