[实用新型]一种有机单晶生长装置有效
| 申请号: | 201821138144.3 | 申请日: | 2018-07-18 |
| 公开(公告)号: | CN208485986U | 公开(公告)日: | 2019-02-12 |
| 发明(设计)人: | 刘秀华;谭昭怡;胡青元;朱通华;董兰;甯家敏;邓义;蔺金贤 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 |
| 主分类号: | C30B29/54 | 分类号: | C30B29/54;C30B7/08 |
| 代理公司: | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人: | 翟长明;韩志英 |
| 地址: | 621999 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 有机单晶 生长装置 降温装置 水浴装置 照明装置 透光窗 本实用新型 照明灯 晶体生长过程 晶体生长装置 热交换器 有机溶剂 制冷系统 水浴缸 生长 挥发 控温 外接 观察 拓展 | ||
本实用新型公开了一种有机单晶生长装置,该生长装置包括晶体生长装置、水浴装置,还增加了照明装置,同时在水浴装置中增加了降温装置;照明装置包括照明灯和透光窗,透光窗置于水浴装置中的水浴缸盖内,照明灯置于透光窗的上方;降温装置包括热交换器和外接的制冷系统。本实用新型的有机单晶生长装置增加的照明装置能够更方便晶体生长过程的观察,增加的降温装置拓展了有机单晶生长的温度范围,减少了有机溶剂的挥发,在精确控温的条件下可以实现更大的有机单晶的生长。
技术领域
本实用新型属于晶体生长领域,具体涉及一种有机单晶生长装置。
背景技术
溶液晶体生长技术是常用的一种晶体培养方法,但是往往用于无机晶体的培养,溶液法生长无机晶体通常采用水作为溶剂,水的挥发性较低而且无毒,在晶体生长时不需要严格的密封,但是有机晶体一般采用低熔点的有机化合物为溶剂,挥发性强,毒性大,晶体生长时对生长器的密封要求很高,传统的溶液法晶体生长装置一般不适用于有机单晶的生长。中国专利文献库公开的ZL.201720523138.9“一种基于有机溶液的有机单晶生长装置”可以实现生长结晶器的密封要求,但是由于有机溶剂的熔点较低,挥发性强,不能采用较高的温度进行晶体生长,而夏季高温时节室温可达到30℃以上,导致晶体生长的温度范围较窄,很难生长尺寸较大的晶体,而且整个装置没有照明装置,不便于晶体生长过程的观察。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种有机单晶生长装置。
本实用新型的一种有机单晶生长装置包括晶体生长装置、水浴装置,其特点是:还包括照明装置,水浴装置中设置有降温装置;所述的照明装置包括照明灯和透光窗,所述的透光窗密封安装在水浴缸盖Ⅰ内,照明灯置于透光窗的上方,打开照明灯后,照明灯通过透光窗照亮晶体生长瓶,有利于观察晶体生长瓶内的晶体生长情况;所述的降温装置包括热交换器和外接的制冷系统,热交换器的形状为板式或管状螺旋形,置于水浴缸和保温套之间,外接的制冷系统为热交换器降温。
所述的照明灯为LED灯、荧光灯或白炽灯中的一种或二种以上的组合。
所述的照明灯外包裹有防水材料。
所述的透光窗的材料为玻璃或透明的耐热塑料。
所述的热交换器的材料为铜、不锈钢、铝合金或玻璃中的一种。
所述的制冷系统为蒸汽制冷系统、空气制冷系统或热电制冷系统中的一种。
本实用新型的一种有机单晶生长装置在精确控温的条件下,针对低沸点有机物为溶剂时的晶体生长,从生长装置的结构上抑制有机溶液的溶剂挥发,通过控制溶剂挥发和降温速率来控制溶质在溶剂中的过饱和状态,从而实现单晶体的生长。本实用新型的一种有机单晶生长装置适用于易挥发有机化合物作为溶剂的9,10-二苯基苯等多苯基有机单晶的生长,同时也可扩展到其他有机溶液晶体的培养。
附图说明
图1为本实用新型的一种有机单晶生长装置的结构示意图;
图中,1. 水浴缸盖Ⅰ 2.密封垫圈Ⅰ 3. 水浴缸 4.补水管 5搅拌器 6.晶体生长瓶7.瓶底坠 8.加热器 9.温度传感器 10.水浴缸盖Ⅱ 11.瓶盖 12.密封垫圈Ⅱ 13.密封垫圈Ⅲ 14.保温套 15.密封胶帽 16.热交换器 17.照明灯 18.透光窗。
具体实施方式
下面结合附图和实施例详细说明本实用新型。
如图1所示,本实用新型的一种有机单晶生长装置包括晶体生长装置、水浴装置和照明装置;所述的晶体生长装置包括晶体生长瓶6、瓶底坠7、瓶盖11和密封胶帽15;所述的水浴装置包括水浴缸3、补水管4和搅拌器5、加热器8、热交换器16、温度传感器9、保温套14、水浴缸盖、密封垫圈;照明装置包括照明灯17和透光窗18;
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