[实用新型]一种低杂质压铸原料双层融解装置有效

专利信息
申请号: 201821129279.3 申请日: 2018-07-16
公开(公告)号: CN209276592U 公开(公告)日: 2019-08-20
发明(设计)人: 张麟雄 申请(专利权)人: 东莞瑞振金属制品有限公司
主分类号: C22B7/00 分类号: C22B7/00;C22B21/00;B22D17/30
代理公司: 深圳市神州联合知识产权代理事务所(普通合伙) 44324 代理人: 周松强
地址: 523000 广东省东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 坩埚 内置 外置 低杂质 锅口 压铸 本实用新型 融解过程 用户利用 坩埚结构 氧化铝 铝块 铝汤 齐平
【说明书】:

本实用新型公开了一种低杂质压铸原料双层融解装置,该融解坩埚包括有外置融解坩埚,该融解坩埚还包括有内置坩埚,内置坩埚置于外置融解坩埚中,内置坩埚的底部还开设有孔,且内置坩埚的锅口保持与外置融解坩埚的锅口齐平。相比与现有技术,用户利用本装置,可有效清除铝块融解过程中表面覆有的氧化铝杂质,得到较少杂质的铝汤,且整个融解坩埚结构简单,使用方便,适合广泛推广。

技术领域

本实用新型属于铸造加工设备制造领域,特别涉及一种低杂质压铸原料双层融解装置。

背景技术

目前,在铝合金回收再次利用的生产线上,由于铝熔炼后会产生物理变态,化成液态铝,而铝液在通过引流管时,经常会带走很多杂质一起通过引流管至模具内,造成铝锭的纯度不高。

专利申请号为“201420861508.6”的专利申请文件中公开了一种铝合金生产线用的熔坩埚杂质隔离装置,包括熔坩埚,所述熔坩埚内熔炼室底部有铝液引流槽,,所述熔炼室底部为漏斗型,引流槽倾斜向下;本实用新型解决了铝液在通过引流管时,经常会带走很多杂质一起通过引流管至模具内,造成铝锭的纯度不高的问题,且该实用新型结构简单实用,具有极大的市场推广价值。然而,上述装置更多地从加工上确保铝液的纯净度,没法从原料上就确保纯净度,如现有技术中存在的原熔解坩埚只有大坩锅,生产时间久,铝汤表面有氧化铝产生, 取料时直接在铝汤表面取料,会产生杂质的问题。

发明内容

为解决上述问题,本实用新型的目的在于提供一种有效防止铝汤表面氧化铝杂质的低杂质压铸原料双层融解装置。

本实用新型的另一个目的在于提供一种低杂质压铸原料双层融解装置,该融解装置结构简单,制造成本低且易于实现,使用方便,适合广泛推广

为实现上述目的,本实用新型的技术方案如下:

本实用新型提供一种低杂质压铸原料双层融解装置,该融解坩埚包括有外置融解坩埚,该融解坩埚还包括有内置坩埚,内置坩埚置于外置融解坩埚中,内置坩埚的底部还开设有过滤孔,且内置坩埚的锅口保持与外置融解坩埚的锅口齐平。

本融解装置主要用于融解块状铝原料,使用时,将整个融解装置置于融解热源上,将块状铝原料置于外置融解坩埚中,块状铝原料受热融解成为铝汤,铝汤上表面暴露在空气中,铝氧化形成一层氧化铝杂质覆在铝汤表面,内置坩埚置于外置融解坩埚中,且内置坩埚的底部开设有孔,低杂质的铝汤通过孔流入内置坩埚中,操作人员需取用铝汤时,只需取用内置坩埚中的铝汤即可取得较低杂质的液态铝。

内置坩埚中的孔开设的高度不低于外置融解坩埚中融解液中常见杂质悬浮的高度。块状铝原料融解成铝汤后后,块状铝原料中原先含有的较重杂质沉到外置融解坩埚的底部,内置坩埚中的孔的位置开设得当,可避免将沉在底部的杂质进入内置坩埚中,保证内置坩埚中的铝汤杂质较少。

该融解装置还包括有固定坩埚圈组件,固定坩埚圈组件包括有固定坩埚圈,所述固定坩埚圈包括有固定部和支撑部,固定部与支撑部一体成型式连接,固定部与内置坩埚相配合,固定部套设在内置过滤坩埚外,与内置坩埚可拆卸式连接,支撑部架设在外置融解坩埚的上部边缘上。内置坩埚置于固定部中,由支撑部将内置过滤坩埚支撑并架设在外置融解坩埚上,方便操作人员根据实际生产需要将内置融解坩埚放入或取出。

固定坩埚圈包括有第一固定枝与第二固定枝,支撑部包括有左端支撑部和右端支撑部,第一固定枝的左端固定并伸出形成左端支撑部,第一固定枝的中部与第二固定枝的中部围合形成固定部,第一固定枝的右端与第二固定枝的右端分别伸出形成右端支撑部,且第一固定枝的右端与第二固定枝的右端均分别对应开设有紧定孔。

固定坩埚圈组件还包括有锁紧螺钉,所述锁紧螺钉与紧定孔配合,锁紧螺钉分别穿接在第一固定枝与第二固定枝的紧定孔中,锁紧螺钉分别与第一固定枝和第二固定枝可拆卸式连接。使用时,操作人员将内置坩埚置于固定部中,再根据内置坩埚的实际大小,调整锁紧螺钉,保证第一固定枝与第二固定枝围合形成的固定部牢牢箍紧内置坩埚。

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