[实用新型]背照式图像传感器有效

专利信息
申请号: 201821099587.6 申请日: 2018-07-11
公开(公告)号: CN208570610U 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 韩昌勋 申请(专利权)人: DBHiTek株式会社
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙) 31239 代理人: 余文娟
地址: 韩国首尔*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 阻光图案 衬底 背照式图像传感器 背侧表面 抗反射层 滤色器层 像素区域 微透镜阵列 减小 开口
【权利要求书】:

1.背照式图像传感器,包括:

像素区域,其设置在衬底中;

抗反射层,其设置在所述衬底的背侧表面上;

阻光图案,其设置在所述抗反射层上并具有对应于所述像素区域的开口;

滤色器层,其设置在所述阻光图案上;和

微透镜阵列,其设置在所述滤色器层上,

其中所述阻光图案具有朝向所述衬底的背侧表面减小的宽度。

2.如权利要求1所述的背照式图像传感器,其中每个所述像素区域包括:

电荷累积区域,其设置在所述衬底中;和

前侧钉扎层,其设置在所述衬底的前侧表面和所述电荷累积区域之间。

3.如权利要求2所述的背照式图像传感器,其中每个所述像素区域还包括设置在所述衬底的背侧表面和所述电荷累积区之间的背侧钉扎层。

4.如权利要求1所述的背照式图像传感器,进一步包括:

浮置扩散区域,其设置在所述衬底中以与所述像素区域间隔开;和

栅极结构,其设置在所述衬底的前侧表面上并介于所述像素区域和所述浮置扩散区域之间。

5.如权利要求1所述的背照式图像传感器,进一步包括:

钝化层,其设置在所述抗反射层和所述阻光图案上,

其中,所述滤色器层设置在所述钝化层上。

6.如权利要求1所述的背照式图像传感器,进一步包括:

模制层,其设置在所述抗反射层上并具有用于形成所述阻光图案的沟槽;和

钝化层,其设置在所述模制层和所述阻光图案上。

7.如权利要求1所述的背照式图像传感器,进一步包括:

扩散阻挡层,其设置在所述阻光图案的侧表面上以及所述抗反射层和所述阻光图案之间。

8.如权利要求7所述的背照式图像传感器,进一步包括:

第二扩散阻挡层,其设置在所述阻光图案上。

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