[实用新型]一种基于SCR的叉指嵌套混合结构静电释放器件有效

专利信息
申请号: 201821097441.8 申请日: 2018-07-11
公开(公告)号: CN208315548U 公开(公告)日: 2019-01-01
发明(设计)人: 汪洋;芦俊;金湘亮;陈锡均;夹丹丹 申请(专利权)人: 湘潭大学
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 湘潭市汇智专利事务所(普通合伙) 43108 代理人: 颜昌伟
地址: 411105 湖南*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 嵌套结构 注入区 嵌套 静电释放器件 混合结构 叉指 本实用新型 衬底 阴极 左右镜像对称 阳极 单元共用 失效电流 维持电压 依次串接 自由组合
【权利要求书】:

1.一种基于SCR的叉指嵌套混合结构静电释放器件,其特征在于:包括

P型衬底;

P型衬底上设有N型埋层;

N型埋层上设有N型深阱;

N型深阱中从左至右设有N个依次串接的嵌套结构单元,N≥2;

其中位于中间的N-2个嵌套结构单元的结构相同,且均包括2M个P阱Ⅰ,M≥1;位于中间的N-2个嵌套结构单元中,每个嵌套结构单元的中间设有场氧隔离区Ⅰ,场氧隔离区Ⅰ将2M个P阱Ⅰ分为呈镜像对称的左右各M个P阱Ⅰ,其中左侧的M个P阱Ⅰ依次记为第一P阱Ⅰ、第二P阱Ⅰ...第M P阱Ⅰ,第一P阱Ⅰ中从左至右依次设有紧挨的N+注入区Ⅰ、P+注入区Ⅰ、N+注入区Ⅱ,第二至第M P阱Ⅰ中从左至右均依次设有紧挨的P+注入区Ⅱ、N+注入区Ⅲ,每相邻的两个P阱Ⅰ之间、第M P阱Ⅰ与场氧隔离区Ⅰ之间均跨接一个P+注入区Ⅲ;

其中位于最左侧的嵌套结构单元包括2M个P阱Ⅱ,最左侧的嵌套结构单元的中间设有场氧隔离区Ⅱ,场氧隔离区Ⅱ将2M个P阱Ⅱ分为左右各M个P阱Ⅱ;场氧隔离区Ⅱ左侧的M个P阱Ⅱ依次记为第一P阱Ⅱ、第二P阱Ⅱ...第M P阱Ⅱ,场氧隔离区Ⅱ右侧的M个P阱Ⅱ依次记为第M+1 P阱Ⅱ、第M+2阱Ⅱ...第2M P阱Ⅱ,其中第一P阱Ⅱ左侧与P型衬底左侧边缘之间设有场氧隔离区Ⅲ,第一P阱Ⅱ中左至右依次设有紧挨的P+注入区Ⅳ、N+注入区Ⅳ,最左侧的嵌套结构单元中第一P阱Ⅱ右侧的结构与位于中间的N-2个嵌套结构单元中第一P阱Ⅰ右侧的结构相同;

其中位于最右侧的嵌套结构单元与位于最左侧的嵌套结构单元呈镜像对称;

每相邻的两个嵌套结构单元共用一个P阱结构,即位于左侧的嵌套结构单元的最右侧的P阱结构与位于右侧的嵌套结构单元的最左侧的P阱结构为同一P阱结构;

每个嵌套结构单元中,位于左侧的M个P阱结构中所有的P+注入区和N+注入区均连接在一起作为阳极,位于右侧的M个P阱结构中所有的P+注入区和N+注入区均连接在一起作为阴极;

整个叉指嵌套混合结构静电释放器件呈左右镜像对称。

2.根据权利要求1所述的基于SCR的叉指嵌套混合结构静电释放器件,其特征在于:所述N=2,即嵌套结构单元的数量为2个,M=2,即每个嵌套结构单元的指数为2,由两个嵌套结构单元的两指嵌套结构共用阴极组成四指嵌套叉指混合结构。

3.根据权利要求1所述的基于SCR的叉指嵌套混合结构静电释放器件,其特征在于:在器件总指数不变的前提下,通过减少每个嵌套结构单元的指数,增加嵌套结构单元的数量来提高器件整体的失效电流。

4.根据权利要求1所述的基于SCR的叉指嵌套混合结构静电释放器件,其特征在于:在器件总指数不变的前提下,通过增加每个嵌套结构单元的指数,减少嵌套结构单元的数量来提高器件整体的维持电压。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湘潭大学,未经湘潭大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821097441.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top