[实用新型]腔体控温装置

说明书

本实用新型公开了一种腔体控温装置，用于PVD法真空镀膜，其特征在于，包括：腔体；所述腔体的底部设有引出口；温控回路，设置于所述腔体的内侧，并通过所述引出口引出至所述腔体外；检测单元，设置于所述腔体的外侧；控制单元，设置于所述腔体的外侧，并与所述检测单元信号连接；执行单元，设置于所述腔体的外侧，并与所述控制单元信号连接。该温控装置通过利用共同控制单元在同一温控回路中进行冷却与加热步骤，与传统PVD真空镀膜温控系统相比，其响应速度更快，控温更精确，温度分布更加均匀；并且在同一温控回路中，冷水流体和热水流体可循环工作，能够有效降低能耗，防止资源浪费。

技术领域

本实用新型涉及一种腔体温控装置，属于温控设备领域。

背景技术

对于PVD真空镀膜腔体温度的控制，目前现有的方式大部分采用安装加热设备和制冷设备，或者采用半集成式恒温设备等方式。以加热设备为例，多采用加热棒和加热器，通过传统的温度继电器控制温度变化以达到加热目的，相应的腔体冷却设备多采用外置冷水机，辅以压缩机以达到腔体冷却降温的目的。以上两者需要相互配合，以达到PVD真空镀膜腔体温度控制的目的，由于腔体加热和冷却为两个独立工作的单元，常出现步调不一致、温度波动大、温度控制不准确等诸多弊端。综上，现有的PVD真空镀膜温控设备，由于加热和冷却为两个相互独立单元，存在无法精准控制腔体温度的缺点，无法满足PVD真空镀膜腔体温度要求，无法为PVD真空镀膜工作环境创造最佳的工作条件。

实用新型内容

基于上述现有技术中存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种结构简单的腔体温控装置，可同时控制和调节其加热和冷却功能，以达到精确控温，为PVD真空镀膜提供最佳工作环境的效果。

为达到上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种腔体温控装置，用于PVD法真空镀膜，包括：腔体；腔体的底部设有引出口；温控回路，设置于腔体的内侧，并通过引出口引出至腔体外；检测单元，设置于腔体的外侧；控制单元，设置于腔体的外侧，并与检测单元信号连接；执行单元，设置于腔体的外侧，并与控制单元信号连接。

进一步地，温控回路为串联在一起的管路回路，管路回路内部填充有循坏流动的水流体；管路回路上分别设有进水管和出水管，并且通过引出口引出至腔体外。

进一步地，检测单元为温度传感器。

进一步地，控制单元为单片机控制系统。

进一步地，执行单位包括与温控回路相连通的电磁阀、磁力泵、通过管路并联在磁力泵上的加热单元与冷却单元、进出水主管；其中，电磁阀通过进出水主管与磁力泵相连通。

进一步地，电磁阀通过进水管和出水管与温控回路相连通

进一步地，引出口处设有密封装置，进水管与出水管通过密封装置引出至腔体外。

本实用新型的有益效果在于：通过利用共同控制单元在同一温控回路中进行冷却与加热步骤，与传统PVD真空镀膜温控系统相比，其响应速度更快，控温更精确，温度分布更加均匀；并且在同一温控回路中，冷水流体和热水流体可循环工作，能够有效降低能耗，防止资源浪费。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

附图说明

图1为腔体温控装置的结构示意图；

图2为腔体温控装置底部的局部结构示意图；

图3为腔体温控装置的温控回路结构示意图；

图4为腔体温控装置的电控结构示意图；

图5为腔体温控装置的工作流程图。

具体实施方式