[实用新型]一种张网设备的辅助装置及张网设备有效
申请号: | 201821079501.3 | 申请日: | 2018-07-09 |
公开(公告)号: | CN208467576U | 公开(公告)日: | 2019-02-05 |
发明(设计)人: | 袁鹏程 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | B23K37/00 | 分类号: | B23K37/00;B23K37/04 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 莎日娜 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掩膜 张网 辅助装置 工位 气浮 本实用新型 卡扣 表面齐平 固定掩膜 基台表面 气浮过程 相对两侧 掩膜版 基台 取放 制备 保证 | ||
本实用新型实施例提供的一种张网设备的辅助装置及张网设备,用于固定掩膜框架,所述辅助装置包括:气浮基台和设置在所述气浮基台表面上相对两侧的卡扣;所述卡扣在所述气浮基台上具有用于取放所述掩膜框架的第一工位和用于固定所述掩膜框架的第二工位,所述卡扣处于所述第二工位时,朝向所述掩膜框架的表面齐平。本实用新型实施例中,能够保证在气浮过程中,掩膜框架保持水平,提高制备掩膜版的精度。
技术领域
本实用新型涉及机械设备组件,尤其涉及一种张网设备的辅助装置及张网设备。
背景技术
在采用张网设备制备高精度掩膜版时,在拉伸工艺中,需将掩膜版条焊接在掩膜框架上,掩膜版条在焊接时,由于在一个方向对掩膜版条具有拉伸力,使掩膜版条出现应变,所以需要在这个方向添加挤压力,防止掩膜版条发生应变。而在施加挤压力时,掩膜框架会与张网设备的摩擦力使真实施加的挤压力值与需要的挤压力值有一定的偏差。
目前,采用导入气体浮力使掩膜框架与张网设备之间具有一定的空隙,来避免摩擦力的影响,但是浮力会导致掩膜框架无法达到水平,进而导致挤压力的施加无法达到同一水平线,影响最后掩膜版形成的精度。
实用新型内容
本实用新型提供一种张网设备的辅助装置,以解决现有技术中框架与张网设备具有摩擦力,气浮使掩膜框架无法保持水平状态,进而影响掩膜版精度的问题。
根据本实用新型的第一方面,提供了一种张网设备的辅助装置,用于固定掩膜框架,所述辅助装置包括:气浮基台和设置在所述气浮基台表面上相对两侧的卡扣;
所述卡扣在所述气浮基台上具有用于取放所述掩膜框架的第一工位和用于固定所述掩膜框架的第二工位,所述卡扣处于所述第二工位时,朝向所述掩膜框架的表面齐平。
优选的,还包括:于所述卡扣连接的驱动机构,以驱动所述卡扣在所述第一工位与所述第二工位之间移动。
优选的,所述驱动机构包括伺服电机。
优选的,还包括:
距离感应装置,所述距离感应装置与所述驱动机构连接,以感应所述卡扣与所述掩膜框架之间的距离,并将所述距离发送至所述驱动机构,以供所述驱动机构驱动所述卡扣。
优选的,所述卡扣呈“L”型。
优选的,在所述气浮基台的表面上相对两侧分别具有2个所述卡扣。
优选的,所述卡扣朝向所述掩膜框架的表面为陶瓷表面。
根据本实用新型的第二方面,提供了一种张网设备,包括:气浮装置和如上述任意一项所述的辅助装置,其中所述气浮基台设置在所述气浮装置上。
本实用新型实施例提供的张网设备的辅助装置,用于固定掩膜框架,包括:气浮基台和设置在所述气浮基台表面上相对两侧的卡扣;所述卡扣在所述气浮基台上具有用于取放所述掩膜框架的第一工位和用于固定所述掩膜框架的第二工位,所述卡扣处于所述第二工位时,朝向所述掩膜框架的表面齐平。本实用新型实施例中,能够保证在气浮过程中,掩膜框架保持水平,提高制备掩膜版的精度。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案,下面将对本实用新型实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型实施例提供的一种张网设备的辅助装置在使用过程中的结构示意图;
图2是本实用新型实施例提供的一种气浮基台的结构示意图;
图3是本实用新型实施例提供的一种张网设备的辅助装置的俯视结构示意图。
具体实施方式
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