[实用新型]蒸镀掩模和蒸镀掩模装置

说明书

本实用新型涉及蒸镀掩模和蒸镀掩模装置。蒸镀掩模(20)具备：第一掩模(30)，其形成有开口部(35)；和第二掩模(40)，其与第一掩模(30)重叠，形成有复数个具有比开口部(35)的面方向尺寸小的面方向尺寸的贯通孔(45)，该蒸镀掩模(20)具有使第二掩模(40)和第一掩模(30)相互接合的复数个接合部(16)，复数个接合部(16)沿着第二掩模(40)的外缘(43)排列，在第二掩模(40)的外缘(43)的与相邻的两个接合部(16)之间对应的位置，形成有切口(46)。

技术领域

本实用新型涉及在蒸镀材料向被蒸镀基板的蒸镀中所使用的蒸镀掩模和蒸镀掩模装置。

背景技术

近年来，对于在智能手机、平板电脑等可携带的设备中使用的显示装置，要求高精细，例如要求像素密度为400ppi以上。另外，对于可携带的设备而言，对应对超全高清的需要也在不断高涨，这种情况下，要求显示装置的像素密度为例如800ppi以上。

在显示装置中，有机EL显示装置由于响应性良好、耗电低、对比度高而备受关注。作为形成有机EL显示装置的像素的方法，已知有使用包含以所期望的图案排列的贯通孔的蒸镀掩模以所期望的图案形成像素的方法。具体而言，首先将有机EL显示装置用的基板(有机EL基板)投入蒸镀装置中，接着在蒸镀装置内使蒸镀掩模相对于有机EL基板密合，进行使有机材料蒸镀至有机EL基板的蒸镀工序。

作为这样的蒸镀掩模的一例，可以举出JP2016-148112A所公开的蒸镀掩模。JP2016-148112A所公开的蒸镀掩模是利用镀覆处理而制造的。首先，在绝缘性的基材上形成导电性图案，然后使用电镀法在导电性图案上形成金属层。然后，将基材和导电性图案去除，由此得到具有金属层的蒸镀掩模。在该技术中，利用镀覆处理来制造蒸镀掩模，因此具有能够得到厚度变薄的蒸镀掩模的优点。利用厚度变薄的蒸镀掩模，能够使从相对于蒸镀掩模的板面的法线方向大幅地倾斜的方向朝向有机EL基板等被蒸镀基板的蒸镀材料适当地附着于在蒸镀掩模的贯通孔内露出的被蒸镀基板上。

在JP2016-148112A所公开的技术中，利用镀覆处理制造出蒸镀掩模之后，将该蒸镀掩模安装于框架而制造出蒸镀掩模装置。此时，蒸镀掩模装置的框架将蒸镀掩模保持为张紧的状态。即，在固定于框架的状态下，对蒸镀掩模赋予张力。由此，抑制了蒸镀掩模产生挠曲。但是，根据本申请设计人的研究，发现了下述问题：由于对厚度变薄的蒸镀掩模赋予张力，导致在该蒸镀掩模产生褶皱、变形。

为了解决该问题，本申请设计人对于利用如下所述的方法制造蒸镀掩模和蒸镀掩模装置进行了研究。首先，例如在基材上设置由铜等导电性材料构成的导电性图案，在该导电性图案上设置形成蒸镀掩模的金属层，制作出具有基材、导电性图案和金属层的层积体。接着，利用焊接等将层积体的金属层接合于框架。然后，将导电性图案蚀刻去除而将基材与金属层分离。由此，制造出由金属层形成的蒸镀掩模以及具有蒸镀掩模和框架的蒸镀掩模装置。根据这样的方法，将形成蒸镀掩模的层积体的金属层在保持在基材上的状态下接合于框架，因此能够良好地确保蒸镀掩模的平坦性。认为由此能够抑制在蒸镀掩模中产生褶皱、变形。

本申请设计人对于这样的方法进行了进一步研究，结果发现了如下所述的课题。蒸镀掩模为使用镀覆法而析出的金属层的情况下，在该金属层内产生残留应力(内部应力)，由此会在金属层的面内产生拉伸力。该拉伸力的大小根据金属层的厚度、组成等而变化。在由镀覆层构成的蒸镀掩模的面内产生厚度、组成的不可避免的偏差，这种情况下，蒸镀掩模内的拉伸力也会产生面内的偏差。因此，去除基材后的蒸镀掩模由于该拉伸力的面内偏差，有时各贯通孔的位置偏离规定的位置。

实用新型内容

本实用新型是考虑了这样的问题而完成的，其目的在于提供能够抑制贯通孔的位置偏移的蒸镀掩模和蒸镀掩模装置。

本实用新型的蒸镀掩模具备：

第一掩模，其至少形成有沿着第一方向排列的复数个开口部；和