[实用新型]触控面板

说明书

一种触控面板，包括：基板，其具有显示区与周边区；设置于基板上的感光层与金属纳米线层；以及设置于周边区上的感光导电层，其中感光导电层与感光层经曝光后定义出去除区与保留区，其中，在显示区中，位于去除区的感光层与金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于显示区的触控感应电极；在周边区中，位于去除区的感光导电层、感光层与金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于周边区的周边线路，触控感应电极电性连接于周边线路。

技术领域

本实用新型是关于一种触控面板的制作方法及其触控面板。

背景技术

由于透明导体可同时具有光穿透性与适当的导电性，因而常应用于许多显示或触控相关的装置中。传统技术中，透明导体可以由金属氧化物的薄膜所制成，例如氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)、氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，IZO)、氧化镉锡(Cadmium TinOxide，CTO)或掺铝氧化锌(Aluminum-doped Zinc Oxide，AZO)。在部份情况下，经图案化的金属氧化物薄膜有容易被观察到的问题；此外，金属氧化物薄膜不具有可挠性。因此，现今发展出了多种透明导体，例如利用纳米线等材料所制作的透明导体。

然而利用纳米线制作触控电极，纳米线与周边区的金属引线在制作工艺上及结构上都有许多待解决的问题，例如传统工艺将纳米线涂布在显示区及周边区，并覆盖周边区的金属引线，之后利用蚀刻液将纳米线进行图案化，以在显示区制作出触控感应电极。上述工艺所采用的蚀刻液大多为强酸性，故会导致金属引线受到蚀刻液的作用，使产品可靠度下降；另外，蚀刻液的残留问题也需要额外的清洁过程方能克服。此外，由于纳米线层与金属引线需要两道的黄光微影、蚀刻工艺才能进行图案化，故整体工艺复杂，且触控感应电极与金属引线需要对位，故需预留对位误差空间，使得触控面板的边框无法缩减，因此无法满足窄边框的需求。

再一方面，纳米线层与金属引线的间的接触阻抗过高也会影响触控面板的性能。

因此在利用纳米线制作触控感应电极的工艺上、电极结构上必须依照材料特性重新设计，使产品达到较佳的表现。

实用新型内容

本实用新型的部分实施方式，可提高触控面板的工艺效率，且触控面板具有低阻抗的特性。

本实用新型的部分实施方式提出一种触控面板的制作方法，包括：提供一基板，该基板具有显示区与周边区；设置由金属纳米线所组成的金属纳米线层于显示区与周边区；设置感光层于金属纳米线层上；设置感光导电层于周边区，感光导电层设置于金属纳米线层上；进行一黄光微影步骤。所述的黄光微影步骤包括：将感光层与感光导电层进行曝光以定义出去除区与保留区；以及使用显影液将位于去除区的感光层与金属纳米线层去除，以制作出设置于显示区上的触控感应电极；同时使用显影液将位于去除区的感光导电层、感光层与金属纳米线层去除，以制作出设置于周边区上的周边线路，触控感应电极电性连接于周边线路，其中触控感应电极是由感光层与金属纳米线层所组成。

于本实用新型的部分实施方式中，感光导电层包含负感光性的银浆。

于本实用新型的部分实施方式中，更包含一固化该银浆的步骤。

于本实用新型的部分实施方式中，感光层与该感光导电层为具有相同光波段吸收特性的材料，将该感光层与该感光导电层进行曝光包括利用一曝光源同时对该感光层与该感光导电层进行曝光。

于本实用新型的部分实施方式中，更包括采用粘胶法移除位于该去除区的该金属纳米线。

于本实用新型的部分实施方式中，金属纳米线外露于该感光层。