[实用新型]一种可提高靶材利用率的靶座

说明书

本实用新型公开了一种可提高靶材利用率的靶座，其结构包括装置本体、底座、限位板和滑槽，所述装置本体的底部设有底座，所述底座的底部位置设有底垫，所述底座与底垫之间的连接方式为固定连接，所述底座的两侧位置设有外接板，所述外接板的上部中间位置设有固定螺丝，所述固定螺丝与外接板之间的连接方式为转动连接，所述底座的内部中间位置设有限位板，所述限位板与底座之间的连接方式为嵌入式连接，所述底座的上部两侧位置设有固定板，所述固定板的内部中间位置设有滑轨，所述滑轨与底座之间的连接方式为滑动连接。该一种可提高靶材利用率的靶座，通过装置本体上设有的转动轮及内部设有的滑槽，可以方便靶材进行间歇式工作，经济实用性较强。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射技术领域，具体为一种可提高靶材利用率的靶座。

背景技术

随着电弧放电真空镀膜技术的应用越来越广泛，人们开始对靶材的利用率及设备生产效率的追求也不断提高，特别是对贵重材料，靶材的利用率直接影响生产成本，而设备的定期维修周期的长短对设备的生产效率的提高起了关键性的作用。

现有的用于靶材固定的靶座在使用时只能对靶材进行简单的固定，并不能做到靶材在工作时进行靶材利用率提高内的一个效果，导致靶材的消耗较大，成本较高，不利于使用。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种可提高靶材利用率的靶座，解决了背景技术中所提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种可提高靶材利用率的靶座，其结构包括装置本体、外接板、主接板、辅接板、夹块、辅滑杆、底座、限位板和滑槽，所述装置本体的底部设有底座，所述底座的底部位置设有底垫，所述底座与底垫之间的连接诶方式为固定连接，所述底座的两侧位置设有外接板，所述外接板的上部中间位置设有固定螺丝，所述固定螺丝与外接板之间的连接方式为转动连接，所述底座的内部中间位置设有限位板，所述限位板与底座之间的连接方式为嵌入式连接，所述底座的上部两侧位置设有固定板，所述固定板的内部中间位置设有滑轨，所述滑轨与底座之间的连接方式为滑动连接。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述滑轨的上部设有转动轮，所述转动轮的外侧中部位置设有主滑杆，所述主滑杆的外侧中部位置设有主接板。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述主滑杆的上部中间位置设有辅滑杆，所述辅滑杆的上部中间位置设有辅接板，所述辅滑杆与主滑杆之间的连接方式为固定连接。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述转动轮的内部设有滑槽，所述滑槽的上部设有提升轮，所述提升轮的内部位置设有固定槽，所述提升轮与转动轮之间的连接方式为转动连接。

作为本实用新型的一种优选实施方式，所述提升轮的内部中间位置设有夹块，所述夹块与提升轮之间的连接方式为滑动连接，所述夹块与提升轮的连接处设有卡圈。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

该一种可提高靶材利用率的靶座，通过装置上设有的转动轮及内部设有的滑槽及其与提升轮之间的连接方式，通过转动轮带动提升轮的转动从而达到对靶材进行间歇式工作的方法，提高了靶材的工作时间同时降低了损耗，方便了装置的使用。

附图说明

通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本实用新型的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1为本实用新型一种可提高靶材利用率的靶座的整体结构示意图；

图2为本实用新型一种可提高靶材利用率的靶座的转动轮结构示意图；

图3为本实用新型一种可提高靶材利用率的靶座的夹块结构示意图；