[实用新型]一种用于酸性蚀刻线的输送装置有效
申请号: | 201821040556.3 | 申请日: | 2018-07-02 |
公开(公告)号: | CN208590216U | 公开(公告)日: | 2019-03-08 |
发明(设计)人: | 罗郁新 | 申请(专利权)人: | 广州美维电子有限公司 |
主分类号: | H05K13/02 | 分类号: | H05K13/02 |
代理公司: | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人: | 何国锦;廖军才 |
地址: | 510663 广东省广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗盆 滚轮 酸性蚀刻 输送装置 清洗液 本实用新型 输送机构 液面 轴杆 同轴配置 自身轴线 线路板 结晶物 碳酸钾 盆口 装入 转动 配置 | ||
本实用新型公开了一种用于酸性蚀刻线的输送装置,其至少包括:输送机构、以及清洗盆。输送机构包括:机架、配置于机架的轴杆、以及同轴配置于轴杆的滚轮,滚轮可绕自身轴线转动,线路板适于在滚轮上进行输送;清洗盆,清洗盆适于装入清洗液,滚轮位于清洗盆的盆口上方,清洗盆内清洗液的液面高于滚轮的最低点,且清洗盆内清洗液的液面低于滚轮的最高点。本实用新型提供的用于酸性蚀刻线的输送装置,其能避免在酸性蚀刻线上形成碳酸钾结晶物。
技术领域
本实用新型涉及印制线路板领域,尤其涉及一种用于酸性蚀刻线的输送装置。
背景技术
DES线(酸性蚀刻线)的流程设计大致如下:放板、显影、检查、蚀刻、检查、退膜、烘干、收板。其中,显影是指用弱碱液碳酸钾将未曝光的干膜去掉,露出需要的线路图形,蚀刻是指将露出的非线路铜箔蚀刻掉,以形成所需的线路,退膜是指用强碱液氢氧化钠将线路上的保护干膜去除干净,烘干是指采用热风将板面及孔内的水分吹干防止板面氧化。一般在显影后线路板上会残留有少量的碳酸钾溶液(主要是因为显影后用水难以将碳酸钾溶液完全洗净)。所以在显影后进行运输时,碳酸钾溶液会粘附在运输线上,久而久之,运输线上就会形成碳酸钾结晶物。那么线路板经过该段运输线时,就有可能粘上这些结晶物,从而影响后面的蚀刻步骤,导致蚀刻不净的问题。
实用新型内容
为了克服现有技术的不足,本实用新型的目的在于提供一种用于酸性蚀刻线的输送装置,其能避免在酸性蚀刻线上形成碳酸钾结晶物。
本实用新型的目的采用如下技术方案实现:
一种用于酸性蚀刻线的输送装置,包括:
输送机构,其包括:机架、配置于所述机架的滚轮,所述滚轮可绕自身轴线转动,线路板适于在所述滚轮上进行输送;
清洗盆,所述清洗盆适于装入清洗液,所述滚轮位于所述清洗盆的盆口上方,所述清洗盆内清洗液的液面高于所述滚轮的最低点,且所述清洗盆内清洗液的液面低于所述滚轮的最高点。
进一步地,还包括配置于所述机架的轴杆、所述滚轮同轴配置于所述轴杆。
进一步地,所述轴杆固定连接于所述机架,所述滚轮可转动连接于所述轴杆。
进一步地,还包括驱动装置,所述轴杆可转动连接于所述机架,所述滚轮固定连接于所述轴杆,所述轴杆适于在所述驱动装置的驱动下绕自身轴线转动。
进一步地,所述清洗盆底部开设有进液口、以及出液口。
进一步地,所述清洗盆底部呈倾斜状,且所述出液口低于所述进液口。
进一步地,所述滚轮轮面配置有橡胶层。
相比现有技术,本实用新型的有益效果在于:滚轮可绕自身轴线转动,那么线路板在滚轮上输送的时候,就能和滚轮一起同步运动,这样就能减少线路板和滚轮之间的滑动摩擦,从而减少线路板的损伤。而通过设置清洗盆,让滚轮位于清洗盆的盆口上方,清洗盆内清洗液的液面高于滚轮的最低点,且清洗盆内清洗液的液面低于滚轮的最高点,可以使得滚轮在转动的时候,滚轮的轮面与清洗液接触,从而溶解滚轮轮面上的碳酸钾结晶物,那么线路板在输送过程中,就不会有碳酸钾结晶物从滚轮的轮面粘到线路板上了,从而不会影响后面的蚀刻步骤。
附图说明
图1为本实用新型用于酸性蚀刻线的输送装置的俯视图;
图2为图1的A向剖视图。
图中:1、机架;11、轴杆;12、滚轮;2、清洗盆;21、进液口;22、出液口。
具体实施方式
下面,结合附图以及具体实施方式,对本实用新型做进一步描述,需要说明的是,在不相冲突的前提下,以下描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例。
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