[实用新型]水平舟生产法的反应装置有效

专利信息
申请号: 201821021625.6 申请日: 2018-06-29
公开(公告)号: CN208965082U 公开(公告)日: 2019-06-11
发明(设计)人: 雷仁贵;肖亚东;谈笑天 申请(专利权)人: 汉能新材料科技有限公司
主分类号: C30B29/42 分类号: C30B29/42;C30B11/02;C30B11/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 宋丹氢;张天舒
地址: 101407 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 支架装置 第一层 本实用新型 反应装置 密闭反应 反应管 位置处 叠置 生产工艺 半导体 生产 灵活 支撑 改进
【权利要求书】:

1.一种用于水平舟生产法的反应装置,包括密闭反应管,所述反应管在水平方向的不同位置处布置有水平舟容器,

其中,所述水平舟容器包括至少一个第一层水平舟容器,在所述第一层水平舟容器的至少一个上设置有支架装置,在所述支架装置上叠置一第二层水平舟容器,其中,所述支架装置设置为支撑所述第二层水平舟容器,并在所述第一层水平舟容器和第二层水平舟容器之间提供间隙。

2.根据权利要求1所述的反应装置,其中,所述支架装置为单独设置的部件。

3.根据权利要求1所述的反应装置,其中,所述支架装置与水平舟容器一体设置。

4.根据权利要求3所述的反应装置,其中,所述支架装置与第一层水平舟容器的上部或者第二层水平舟容器的下部一体设置。

5.根据权利要求1所述的反应装置,其中,所述水平舟容器包括主体部分,所述主体部分设置在水平舟容器大致中部,该主体部分的横截面为大致U形。

6.根据权利要求1所述的反应装置,其中,所述支架装置为桥状部件,所述桥状部件两端分别搭扣于第一层水平舟的与所述反应管的轴向大致平行布置的两个侧壁上。

7.根据权利要求6所述的反应装置,其中,所述支架装置的中部设置有下凹的弧状部,以与第二层水平舟容器的底部形状相符。

8.根据权利要求7所述的反应装置,其中,所述弧状部的弧长占放置于该支架上的水平舟容器外表面长度的1/4-1/2。

9.根据权利要求8所述的反应装置,其中,所述弧状部的弧长占放置于该支架上的水平舟容器外表面长度的1/3。

10.根据权利要求1所述的反应装置,其中,所述支架还包括两个凹槽,所述凹槽用于将支架搭扣于水平舟容器上。

11.根据权利要求1所述的反应装置,其中,所述支架装置的数量为2个以上。

12.根据权利要求1所述的反应装置,其中,所述支架装置由PBN材料制成,或者是在石墨材料的表面沉积一层PBN材料。

13.根据权利要求1-12中任一项所述的反应装置,其中,所述反应装置用于半导体合成或半导体掺杂。

14.根据权利要求13所述的反应装置,其中,所述反应装置用于砷化镓多晶合成或砷化镓单晶合成。

15.一种砷化镓多晶合成装置,包括权利要求1-14中任一项所述的用于水平舟生产法的反应装置。

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