[实用新型]一种高强度糙面土工膜

权利要求书

1.一种高强度糙面土工膜，包括膜体(1)，所述膜体(1)的上表面固定连接上膜层(2)，膜体(1)的下表面固定连接下膜层(3)，其特征在于：所述膜体(1)的中间设有芯体(4)，所述芯体(4)的外周包覆有粘结层(5)，所述粘结层(5)固定连接膜体(1)，所述上膜层(2)固定连接柱点(6)，所述柱点(6)的中心设有与其一体成型的柱槽(7)，所述下膜层(3)上设有与其一体成型的凹槽(8)，所述凹槽(8)的中心固定连接凸点(9)，所述柱点(6)和柱槽(7)处于同一竖直平面内，并且柱槽(7)和凸点(9)的大小相匹配，所述膜体(1)的两端固定连接铆接层(10)，所述铆接层(10)固定连接光面焊接边(11)，其中位于膜体(1)左侧的光面焊接边(11)固定连接上拼接块(12)，位于膜体(1)右侧的光面焊接边(11)固定连接下拼接块(13)。

2.根据权利要求1所述的一种高强度糙面土工膜，其特征在于：所述上膜层(2)和下膜层(3)的厚度相同，上膜层(2)与膜体(1)的厚度比为1：6。

3.根据权利要求1所述的一种高强度糙面土工膜，其特征在于：所述芯体(4)为高密度聚乙烯柱形体，并且芯体(4)的直径与膜体(1)的厚度比为1：2。

4.根据权利要求1所述的一种高强度糙面土工膜，其特征在于：所述柱点(6)在上膜层(2)的表面呈矩阵式均匀分布，相邻柱点(6)的间距为2～4mm，柱点(6)的高度等于0.4mm。

5.根据权利要求1所述的一种高强度糙面土工膜，其特征在于：所述凸点(9)为圆饼状结构，其厚度等于凹槽(8)深度的三分之一。

6.根据权利要求1所述的一种高强度糙面土工膜，其特征在于：所述上拼接块(12)的底端设有与其一体成型的圆柱状凹槽，下拼接块(13)的顶端与其一体成型的圆柱状凸块，圆柱状凹槽与圆柱状凸块的大小和位置相匹配。