[实用新型]一种光源装置

说明书

本实用新型提供一种光源装置，包括壳体、光源部以及反射部，壳体具有位于壳体侧面的进气口，光源部包括光源、反射碗以及反射镜；在反射镜的下部边缘设置喷嘴组件，进气口的外侧设置净化装置，进气口的内侧设置挡片，从而减轻因空气中的颗粒物、有机物等杂质对光源部紧密元器件的影响，延长了精密元器件的使用寿命。

技术领域

本实用新型属于液晶治具的技术领域，尤其涉及一种光源装置。

背景技术

UV²A曝光技术是一种利用异向性能量的紫外光照射在高分子薄膜上(聚酰亚胺)，使薄膜表面的高分子结构发生均匀性旋转、光聚合或者裂解反应，致使薄膜表面产生异向性分布的范德华力，进而诱导液晶分子排列的新型配向方式。

UV²A曝光设备中的重要部件即是光源装置，光源装置分为光源部和反射部，光源部中的高压水银灯通电发光，通过反射碗、反射镜等部件对光进行反射和过滤后，传输至反射部再进行反射、过滤，最终照在薄膜上的是特定波长的紫外光。光源部因通电发光产生热量，需接通热排进行散热，光源部底部开口与外界接通便于空气流通；反射部无高温，且其中有精密元器件，采用冲氮气保护措施。光源部在进行排气散热的同时，外界有机物、颗粒物等通过底部开口进入光源部内部，并在高温作用下，附着在反射碗及反射镜表面，对其反射率及过滤效果造成不良影响，进而影响光源功率及曝光效果。

现有光源装置的光源部空气流通方式为上方接排气口，下方开口有外部空气进入，形成空气流动，达到冷却效果。然而，由于光源装置的光源部正下方是玻璃基板途径区域，玻璃基板进入设备，会携带入一定的颗粒污染物，同时基板上的配向膜在经过紫光光照射后，存在有机物的挥发，之后基板在经过光源部下方时，这些颗粒污染物和有机物就会随着冷却空气的流动进入光源部，在高温的作用下附着在反射碗及反射镜表面。附着的颗粒物和有机物在原本平滑的反射镜的镀层表面形成凹凸不平的薄膜，对反射镜的反射率造成严重不良影响，进而影响光源的功率及使用寿命，甚至影响配向效果。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种新型的光源装置，通过改变进气口位置、增加净化装置以及喷嘴结构，优化了现有光源装置的结构，减轻因空气中的颗粒物、有机物等杂质对光源部紧密元器件的影响，延长了精密元器件的使用寿命。

本实用新型提供一种光源装置，包括：壳体、位于所述壳体侧部的进气口、位于所述壳体顶部的出气口以及位于所述壳体内部的光源部以及反射部；所述光源部包括：放射紫外光的光源、位于所述光源下部的反射碗、以及位于所述光源上部的反射镜；所述光源装置还包括位于所述反射镜下方的喷嘴组件、设置在所述进气口外侧的净化装置以及设置在所述进气口内侧的挡片。

优选地，所述净化装置包括外壳、设置在外壳内部的风机和过滤层、以及设置在外壳外部的导风圈。

优选地，所述过滤层是油气分离层和/或活性炭层。

优选地，所述喷嘴组件包括喷嘴、进气管、以及连接喷嘴和进气管的连接管；所述喷嘴位于所述反射镜的下部边缘。

优选地，所述喷嘴为风刀喷嘴，其形状是扇形、倒梯形、或三角形。

优选地，多个所述喷嘴等间隔的设置在连接管上。

优选地，所述挡片位于所述壳体内、且与进气口平行设置。

优选地，所述光源装置还包括位于壳体下的底座，所述底座与壳体连通。

优选地，所述进气口设置在底座的侧部，净化装置设置在底座上。

优选地，所述挡片设置在所述底座的内部。

本实用新型的光源装置，通过增加净化装置以及喷嘴组件，可将光源部与外部空气中的有机物及颗粒物等杂质隔离，同时降低杂质在反射镜表面的附着率。此外，还增设了挡片，起到了缓冲气流的作用。

附图说明