[实用新型]一种低能耗刻蚀液中和反应罐

说明书

本实用新型公开了一种低能耗刻蚀液中和反应罐，包括混流罐、中和灌、进液腔和出液口。其特征在于：通过在混流罐内设置相互交错的多层隔板，酸性刻蚀液和碱性刻蚀液在重力作用下流经层层隔板，大大加长加宽了液体流程，即增加了酸液和碱液混合的机会和时间，不需要搅拌装置即可实现酸液和碱液的充分混合；将酸液口和碱液口集成在一起，酸、碱刻蚀液可同时注入混流罐，而且进液腔下端设置有网孔较小的网状挡板，使得酸液和碱液在进入混流罐之前已经得到了初步混合。本实用新型结构简单，取消了搅拌装置，大大降低了酸、碱刻蚀液中和反应的能耗。

技术领域

本实用新型涉及一种反应罐，具体涉及一种低能耗刻蚀液中和反应罐。

背景技术

刻蚀技术不仅是半导体器件和集成电路的基本制造工艺，而且还应用于薄膜电路、印刷电路和其他微细图形的加工。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀，湿法刻蚀是最普遍、成本最低的刻蚀方法，因此刻蚀液在半导体生产工艺应用非常普遍。刻蚀液的生产过程中，有时需要将酸性刻蚀液与碱性刻蚀液进行中和，此时需要用到中和反应罐。目前，现有的中和反应罐都需要通过搅拌电机带动搅拌装置进行搅拌混匀，能耗较高。

实用新型内容

本实用新型为了克服上述问题，设计一种低能耗刻蚀液中和反应罐。

本实用新型是通过如下技术方案实现的：一种低能耗刻蚀液中和反应罐，包括混流罐、中和罐、进液腔和出液口其特征在于：

所述混流罐为方形，混流罐内设置有多层隔板，所述隔板一端与混流罐内壁封闭连接，另一端与混流罐内壁有间隙，相邻隔板与混流罐内壁形成的间歇交错排列；

所述混流罐其中一侧可开关，与可开关一侧相邻的两侧设有梯形槽，所述隔板与混流罐连接的连接端头截面呈梯形，连接端头与梯形槽相匹配，隔板通过连接端头插入梯形槽；

所述隔板上设有纵横交错的凹槽；

所述进液腔设置于混流罐顶部，进液腔上集成有酸液口和碱液口；

所述进液腔底部为网状挡板；

所述中和罐与混流罐一体成型，并位于混流罐的底部，中和罐与混流罐之间由一边高一边低的斜面板隔开，斜面板较低的一端与混流罐侧壁有间歇，该间歇成为液体流入中和罐的通道；

所述中和罐内壁设置有pH值检测头，所述混流罐顶部设置有pH值显示器，pH值检测头与pH值显示器电性连接；

所述pH值检测头与中和罐底部的距离和与斜面板最高处的距离相等。

进一步地，所述隔板与混流罐内壁之间的间歇宽度为3cm~5cm。

进一步地，所述网状挡板网孔为圆形，网孔直径0.3mm~0.5mm。

与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：

1、本实用新型完全取消了搅拌装置，通过设置相互交错的多层隔板，酸液和碱液在重力作用下流经层层隔板，大大加长加宽了液体流程，也就是增加了酸液和碱液混合的机会和时间；同时，隔板上设有纵横交错的凹槽，进一步促进了液体的混合，不需要搅拌装置即可实现酸液和碱液的充分混合。

2、本实用新型将酸液口和碱液口集成在一起，酸、碱刻蚀液可同时注入混流罐，而且进液腔下端设置有网孔较小的网状挡板，使得酸液和碱液在进入混流罐之前已经得到了初步混合，进一步提高了混合效果。

3、隔板通过梯形端头插入梯形槽的方式与混流罐内壁连接，混流罐还可以打开，便于将隔板抽出清洗。

4、中和罐内设有pH值检测头，该检测头与设置于混流罐顶部的pH值显示器电性连接，酸、碱刻蚀液的中和结果是否符合要求，可以得到直观的显示。