[实用新型]一种高纯气体提纯装置有效

专利信息
申请号: 201820961412.5 申请日: 2018-06-21
公开(公告)号: CN208583144U 公开(公告)日: 2019-03-08
发明(设计)人: 许进荣;曹素英;许铭捷 申请(专利权)人: 福建久策气体集团有限公司
主分类号: B01D53/02 分类号: B01D53/02
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊;吴志龙
地址: 350109 福建省*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 高纯气体 提纯装置 联通管 吸气剂 罐体 本实用新型 罐体下部 联通 排出 产品气出口 原料气入口 罐体上部 气体提纯 气体原料 纵向设置 封闭 出气口 分布管 气入口 吸附段 卸料口 原料气 装填口 环布 进气 下端
【说明书】:

本实用新型提供一种高纯气体提纯装置,包括封闭的罐体,所述封闭的罐体上部联通有吸气剂装填口、原料气入口及出气口,所述气体原料气入口固定连接有纵向设置于罐体的联通管,所述联通管下端位于罐体的下部且联通管下部联通有环布于罐体下部的进气分布管,所述的罐体下部设置有用于将吸气剂排出的吸气剂卸料口,本实用新型的目的在于公开了一种高纯气体提纯装置。原料气经所述高纯气体提纯装置底部由下而上经过整个吸附段,从顶部的所述产品气出口排出。利用该装置可以满足气体提纯的需求。

技术领域

本实用新型涉及一种高纯气体提纯装置。

背景技术

随着科学技术的发展,电子级惰性气体(纯度在99.999%以上的氩、氦)在各个领域都有很广泛的应用。主要有激光、电子工业、超临界萃取、核工业及科院研究等领域。近年来,随着电子芯片以及平板显示器生产过程中需要大量的电子级氦气、氩气,市场需求量激增。目前,各气体公司所售的纯度为99.999%的氦气、氩气都是以高纯原料气分装为主。或是利用催化氧化技术脱氢、脱氧和脱碳氢化合物等杂质;再或者是利用吸附精馏技术提纯。但是,上述的提纯工艺复杂、投入成本高、费时和费钱。目前,国内市场中的氦气、氩气纯度基本上都达到99.999%,所含杂质主要是水分、氧、二氧化碳等。因此,以市场上所售的99.999%的氦气或氩气为原料,对其进一步提纯,可以制得电子级的产品气。综上所述,特别需要一种高纯气体提纯装置,以解决上述存在的问题。

发明内容

本实用新型对上述问题进行了改进,即本实用新型要解决的技术问题是现有氦气、氩气纯度无法满足电子级的产品气的需求。

本实用新型的具体实施方案是:一种高纯气体提纯装置,包括封闭的罐体,所述封闭的罐体上部联通有吸气剂装填口、原料气入口及出气口,所述气体原料气入口固定连接有纵向设置于罐体的联通管,所述联通管下端位于罐体的下部且联通管下部联通有环布于罐体下部的进气分布管,所述的罐体下部设置有用于将吸气剂排出的吸气剂卸料口。

进一步的,所述罐体底部设置有朝向外部联通的活化排污口。

进一步的,所述罐体的顶部和底部设置有温度计。

与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:本实用新型的目的在于公开了一种高纯气体提纯装置。原料气经所述高纯气体提纯装置底部由下而上经过整个吸附段,从顶部的所述产品气出口排出。实现提纯,且纯化过程无需伴热或引入其他能源,仅需原料气提供的压差即可,极大的优化了气体提纯的流程与能耗。当吸气剂对杂质气体吸附饱和后或达不到提纯效果时,可通过加热原料气进行反吹,经所述活化排污口排出,即可实现吸附器的循环使用。

整个提纯过程,无需伴热或引入其他能源,仅需原料气提供的压差即可,极大的优化了气体提纯的流程与能耗,当吸附段里的吸气剂对气体中的杂质吸附饱和后或达不到所需的提纯效果时,可通过加热原料气进行反吹,经活化排污口排出,即可实现吸附器的循环使用。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型做进一步详细的说明。

如图1所示,包括封闭的罐体10,所述封闭的罐体10上部联通有吸气剂装填口110、原料气入口120及出气口130,所述气体原料气入口120固定连接有纵向设置于罐体的联通管121,所述联通管121下端位于罐体的下部且联通管下部联通有环布于罐体下部的进气分布管122,所述的罐体下部设置有用于将吸气剂排出的吸气剂卸料口140,所述罐体底部设置有朝向外部联通的活化排污口150。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建久策气体集团有限公司,未经福建久策气体集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820961412.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top