[实用新型]一种物理气相沉积磁控蒸发地真空镀膜设备

说明书

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，尤其涉及一种物理气相沉积磁控蒸发地真空镀膜设备，包括：配电箱、仓门、密封胶条；所述仓门位于仓体的两侧，且仓门与仓体通过铰链相连接；所述配电箱设置在仓门的顶端，且配电箱与仓门通过固定螺栓相连接；所述密封胶条设置在仓门的内壁上，且密封胶条与仓门通过固定螺栓相连接；所述观察窗设置在仓门的外壁上，且观察窗与仓门通过镶嵌方式相连接；本实用新型通过以上结构上的改进，具有工件及镀料装卸与镀膜同时进行，生产效率高、加热蒸发镀膜技术和磁控溅射镀膜技术有效结合，镀膜质量好、装置容量大、生产效率高、适用范围广的优点，从而有效的解决了现有装置中存在的问题和不足。

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，尤其涉及一种物理气相沉积磁控蒸发地真空镀膜设备。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种，蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点－岛状结构－迷走结构－层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

但是现有的真空镀膜设备在实际使用过程中普遍存在工件及镀料装卸不便的问题，影响工作效率，且只具备加热蒸发镀膜或磁控溅射镀膜工艺，镀膜工艺单一，膜层牢固性较差。

如上述中提出的问题，本方案提供一种物理气相沉积磁控蒸发地真空镀膜设备，并通过该新型物理气相沉积磁控蒸发地真空镀膜设备达到解决上述中出现的问题和不足，使之能更具有实用的目的。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种物理气相沉积磁控蒸发地真空镀膜设备，以解决上述背景技术中提出的现有的真空镀膜设备在实际使用过程中普遍存在工件及镀料装卸不便的问题，影响工作效率，且只具备加热蒸发镀膜或磁控溅射镀膜工艺，镀膜工艺单一，膜层牢固性较差的问题和不足。

本实用新型的目的与功效，由以下具体技术方案所达成：