[实用新型]一种泵浦探测系统

权利要求书

1.一种泵浦探测系统，其特征在于，包括：光学平台以及设置在所述光学平台上的激光器、载物装置、控制设备、反射调节镜、第一延时装置、第二延时装置、第一分光片、第二分光片、第三分光片、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜、第一光阑、第二光阑、第三光阑、第四光阑、太赫兹发射装置、太赫兹探测装置、第一太赫兹反射镜、第二太赫兹反射镜和光功率计；

所述载物装置用于放置待测样品，所述载物装置与所述控制设备电性连接，在所述控制设备的控制下将所述待测样品移动至第一预设位置或第二预设位置；所述第一预设位置位于所述第一太赫兹反射镜和第二太赫兹反射镜之间，所述第二预设位置与所述光功率计相对应；

所述激光器发射的激光经过所述第一分光片分成相互垂直传播的泵浦光和探测光；所述泵浦光通过所述第一延时装置被反射至所述反射调节镜，并通过所述反射调节镜的调节将所述泵浦光反射至位于所述第一预设位置或第二预设位置的待测样品上；

所述探测光经过所述第二分光片分成相互垂直传播的透射探测光和太赫兹探测光，其中所述透射探测光通过所述第二延时装置被发射至所述第一反射镜，所述第一反射镜将所述透射探测光反射至所述第三分光片；所述太赫兹探测光通过所述第二反射镜反射至所述太赫兹探测装置；

所述透射探测光经过所述第三分光片分成相互垂直传播的样品探测光和太赫兹泵浦光，其中所述样品探测光经过所述第三反射镜反射至位于所述第一预设位置的待测样品，所述太赫兹泵浦光经过所述第四反射镜反射至所述太赫兹发射装置；所述光功率计用于测量透过所述待测样品的样品探测光；

其中，所述第一光阑位于所述第一分光片和第一延时装置对应的光路之间，用于阻断或导通所述泵浦光；所述第二光阑位于所述第二分光片和第二反射镜对应的光路之间，用于阻断或导通所述太赫兹探测光；所述第三光阑位于所述第三分光片和第三反射镜对应的光路之间，用于阻断或导通所述样品探测光；所述第四光阑位于所述第三分光片和第四反射镜对应的光路之间，用于阻断或导通所述太赫兹泵浦光；

其中，在所述太赫兹泵浦光的激励作用下所述太赫兹发射装置发射出太赫兹波，所述太赫兹波经过所述第一太赫兹反射镜、位于所述第一预设位置的待测样品和第二太赫兹反射镜传播至所述太赫兹探测装置。

2.根据权利要求1所述的泵浦探测系统，其特征在于，还包括：设置在所述光学平台上的第五反射镜和第六反射镜，所述第五反射镜和第六反射镜用于将所述太赫兹探测光经过两次反射至所述第二反射镜。

3.根据权利要求2所述的泵浦探测系统，其特征在于，还包括：设置在所述光学平台上的第七反射镜，所述第七反射镜用于将所述激光器发射的激光反射至所述第一分光片上。

4.根据权利要求2所述的泵浦探测系统，其特征在于，所述第二光阑设置所述第五反射镜和第六反射镜对应的光路之间。

5.根据权利要求1所述的泵浦探测系统，其特征在于，所述太赫兹发射装置包括第一聚光镜和太赫兹发射器；所述太赫兹探测装置包括第二聚光镜和太赫兹探测器。

6.根据权利要求5所述的泵浦探测系统，其特征在于，还包括：锁相放大器，所述锁相放大器与所述太赫兹探测器电性连接。

7.根据权利要求6所述的泵浦探测系统，其特征在于，还包括：计算机设备；所述控制设备、光功率计和锁相放大器均与所述计算机设备电性连接。

8.根据权利要求1所述的泵浦探测系统，其特征在于，所述载物装置包括电机平移台；所述电机平移台的载物台可延两个相互垂直的方向移动。

9.根据权利要求1所述的泵浦探测系统，其特征在于，还包括：第一凸透镜和孔径光阑；所述第一凸透镜和孔径光阑设置在所述光学平台上且位于所述第三反射镜和光功率计之间以组成Z扫描装置。

10.根据权利要求1所述的泵浦探测系统，其特征在于，所述激光器为飞秒激光器。