[实用新型]成膜掩模

说明书

本申请公开了一种成膜掩模，包括：聚合物膜片，其中多个开口图案贯通聚合物膜片的第一面与聚合物膜片的第二面；具有多个第一贯通孔的第一金属层，第一贯通孔的形状以及位置与聚合物膜片的开口图案的形状以及位置相匹配；具有多个第二贯通孔的第二金属层，第二贯通孔的形状以及位置与聚合物膜片的开口图案的形状以及位置相匹配；二预置金属层分别设置于聚合物膜片与第一金属层之间以及设置于聚合物膜片与第二金属层之间；第一贯通孔以及第二贯通孔分别贯通预置金属层。通过在聚合物膜片的相对两侧面上分别形成金属层的复合式成膜掩模结构，使得成膜掩模在高分辨率制造工艺中能具有较高的良率，并且在高开孔率状态仍具有足够的强度。

技术领域

本申请涉及掩模领域，尤其涉及一种成膜掩模。

背景技术

现有的有机发光二极管显示器已逐渐朝向比1080P更高的分辨率发展，例如分辨率4K。然而，高分辨率的有机发光二极管显示器也为制造工艺带来了新的挑战。配合有机发光二极管显示器的高分辨率制造工艺的发展，也对成膜掩模的精确度有了更高的要求。

现有的有机发光显示器制造工艺中，所需要的成膜掩模多使用高精度金属掩模板(Fine Metal Mask，FMM)，然而在面对高分辨率的需求时，高精度金属掩模板面临了制造良率不足、开孔率过高导致强度降低等问题。这些问题也为有机发光二极管显示器朝向高分辨率发展造成阻碍。

实用新型内容

本申请提供一种成膜掩模，以解决现有技术的高精度金属掩模板良率不足以及高开孔率降低掩模强度的问题。

为了解决上述技术问题，本申请是这样实现的：

第一方面，提供了一种成膜掩模，该成膜掩模包括：

聚合物膜片，具有第一面、第二面以及多个开口图案，其中第一面与第二面是相对设置，多个开口图案贯通聚合物膜片的第一面与聚合物膜片的第二面；

第一金属层，设置于第一面上，第一金属层具有多个第一贯通孔，第一贯通孔的形状以及位置与聚合物膜片的多个开口图案的形状以及位置相匹配；

第二金属层，设置于第二面上，第二金属层具有多个第二贯通孔，第二贯通孔的形状以及位置与聚合物膜片的多个开口图案的形状以及位置相匹配；

二预置金属层，分别设置于聚合物膜片与第一金属层之间，以及设置于聚合物膜片与第二金属层之间；其中，多个第一贯通孔以及多个第二贯通孔分别贯通二预置金属层。

在本申请中，通过成膜掩模在聚合物膜片的相对两侧面上分别形成的第一金属层以及第二金属层的复合式结构，使得新的复合式的成膜掩模在有机发光二极管的高分辨率制造工艺中能具有较高的良率，并且在高开孔率状态仍具有足够的强度。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：

图1(a)是本申请第一实施例的成膜掩模的俯视图。

图1(b)是本申请第一实施例的成膜掩模于图1(a)X-X’线的剖视图。

图2是本申请第一实施例的成膜掩模的A区域的局部放大图。

图3是本申请第一实施例的成膜掩模的B区域的局部放大图。

图4(a)是本申请第二实施例的成膜掩模的俯视图。

图4(b)是本申请第二实施例的成膜掩模于图4(a)Y-Y’线的剖视图。

图5是本申请第二实施例的成膜掩模的C区域的局部放大图。

图6是本申请第二实施例的成膜掩模的D区域的局部放大图。