[实用新型]一种接触式曝光用防粘铬版

说明书

本实用新型提供的接触式曝光用防粘铬版，在铬版最下表面设置一层二氧化硅—含氟聚合物复合薄膜或者二氧化硅—氟硅烷复合薄膜，由于二氧化硅—含氟聚合物复合薄膜或者二氧化硅—氟硅烷复合薄膜具有极低的表面张力，与光刻胶之间没有粘性，因此，可以有效避免在接触曝光时铬版与光刻胶之间的粘附现象，从而杜绝了铬版被污染、光刻胶发生脱落和变形、光刻胶与铬版难以分离现象的发生，解决了传统铬版在接触曝光过程中生产效率低、曝光质量差的技术问题。

技术领域

本实用新型涉及光刻工艺设备的技术领域，尤其是涉及一种接触式曝光用防粘铬版。

背景技术

触摸显示屏是进入21世纪开启智能时代以来普及性相当高的一类产品，触摸显示屏广泛应用于手机、平板、车载设备等各种显示终端上，其作为一种成熟、便捷的输入设备，它是当今社会最简单、自然、最受欢迎的一种人机交互方式，它赋予了生活、生产以崭新的面貌，是现代人生活、工作中不可或缺的一部分。

触摸显示屏中，无论是触控面板还是显示屏模组，都包含导电薄膜层，为了实现特定的功能，导电薄膜往往是要通过蚀刻工艺获得相应的线路结构。黄光微影技术由于其技术成熟、线宽控制精细、均匀性好是目前广泛应用的导电薄膜蚀刻技术，其一般分为接触式曝光和间接式曝光，间接式曝光机的光学效果比接触式曝光机要差，因此，将接触式曝光机用于精密曝光，是解决曝光精度和均匀性的一个重要工艺。实现精密曝光的另外一个重要影响因素是感光剂，相对而言，感光剂图层做的越均匀、越薄其光学性能越好，目前干膜厚度比较薄的在7μm左右，而使用光刻胶可以做到1μm左右，光学性能要远远强于干膜；光刻胶是做精细曝光的重要感光材料，但是光刻胶有存在一个较大的技术缺陷：由于光刻胶粘性较强，在铬版与其接触的过程中，光刻胶容易粘附在铬板表面，一方面需要进行铬版与光刻胶的分离，从而影响工序效率，另一方面，由于铬版与光刻胶之间粘合力较强，容易在转移铬版的过程中导致光刻胶被铬版拖拽，导致光刻胶的脱落和变形，进而影响下一步工序的正常进行，另外，由于光刻胶与铬版接触时发生铬版黏胶，从而导致铬版被污染，影响曝光质量和工序的生产效率。

因此，避免铬版在接触曝光时与光刻胶发生粘附现象是本行业亟待解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种接触式曝光用防粘铬版，从而解决现有技术铬版在接触式曝光时容易粘胶，从而导致铬版被污染、光刻胶发生脱落和变形、光刻胶与铬版难以分离而带来的生产效率低、曝光质量差的技术问题。

本实用新型提供的一种接触式曝光用防粘铬版，其特征在于，所述接触式曝光用防粘铬版包括：玻璃承载板、金属铬层、防粘贴层，玻璃承载板位于铬版的最上表面，所述防粘贴层设置在铬版的最下表面，所述防粘贴层为二氧化硅—含氟聚合物复合薄膜或者二氧化硅—氟硅烷复合薄膜。

进一步的，所述玻璃承载板的材质为石英玻璃、苏打玻璃或者低膨胀玻璃。

进一步的，所述接触式曝光用防粘铬版由上至下依次设置：玻璃承载板、金属铬层、第一氧化铬层、防粘贴层。

进一步的，所述接触式曝光用防粘铬版由上至下依次设置：玻璃承载板、金属铬层、第一氮化铬层、防粘贴层。

进一步的，在玻璃承载板和金属各层之间还设置第二氧化铬层或第二氮化铬层。

进一步的，所述防粘贴层通过溶胶—凝胶法或者喷涂法或者蒸镀法或者溅镀法制备得到。

进一步的，所述防粘贴层的厚度为50-150nm。

本实用新型提供的一种接触式曝光用防粘铬版，其特征在于，所述接触式曝光用防粘铬版包括：玻璃承载板、金属铬层、防粘贴层，玻璃承载板位于铬版的最上表面，所述防粘贴层设置在铬版的最下表面，所述防粘贴层为二氧化硅—含氟聚合物复合薄膜或者二氧化硅—氟硅烷复合薄膜。