[实用新型]一种用于ICP发射光谱仪用气体控制装置

说明书

本实用新型公开了一种用于ICP发射光谱仪用气体控制装置，所述气体控制装置包括：等离子气控制系统，所述等离子气控制系统直接设置在等离子气体的输气管路上；辅助气控制系统，所述辅助气控制系统直接设置在辅助气体的输气管路上；雾化气控制系统，所述雾化器控制系统直接设置在雾化气体的输气管路上；控制器，所述控制器分别与等离子气控制系统、辅助气控制系统和雾化气控制系统控制连接。本实用新型结构简单、操作方便、工作稳定有效，可实现单气体输入和流量等的自动控制。

技术领域

本实用新型涉及一种气体控制装置，具体涉及一种用于ICP发射光谱仪用气体控制装置。

背景技术

在ICP发射光谱中，ICP的形成过程就是工作气体的电离过程。为了形成稳定的ICP炬焰需要四个条件：高频高强度电磁场、工作气体、维持气体放电的石英矩管以及电子-离子源。其中工作气体的流量控制也是形成稳定炬焰的重要前提。在点燃等离体并进行分析测试需要三种气体的配合才能完成，它们分别是等离子气，辅助气和雾化气。其中，等离子气的作用是作为工作气体形成等离子体并冷却石英矩管；辅助气用于辅助等离子的形成；雾化气用于将导入的试样形成气溶胶。三路气体分别起到不同的作用且每路气体的流量范围不同和精度不同，故三路气体需分别独立控制。

因此，为解决ICP发射光谱仪的气体自动控制和流量的精确调节，对于等离子体的行成和分析测定具有十分重要的意义。

实用新型内容

本实用新型为了解决上述问题，从而提供一种用于ICP发射光谱仪用气体控制装置。

为达到上述目的，本实用新型的技术方案如下：

一种用于ICP发射光谱仪用气体控制装置，所述气体控制装置包括：

等离子气控制系统，所述等离子气控制系统直接设置在等离子气体的输气管路上；

辅助气控制系统，所述辅助气控制系统直接设置在辅助气体的输气管路上；

雾化气控制系统，所述雾化气控制系统直接设置在雾化气体的输气管路上；

控制器，所述控制器分别与等离子气控制系统、辅助气控制系统和雾化气控制系统控制连接。

在本实用新型的一个优选实施例中，所述等离子气控制系统包括第一进气口截止阀、第一压力传感器、第一压力调节阀和若干个第一电磁阀，所述第一进气口截止阀、第一压力传感器、第一压力调节阀分别依次设置在等离子气体的输气管路上，若干个第一电磁阀分别并联设置在等离子气体的输气管路上，所述控制器分别连接第一进气口截止阀、第一压力传感器、第一压力调节阀和若干个第一电磁阀。

在本实用新型的一个优选实施例中，所述辅助气控制系统包括第二进气口截止阀、第二压力传感器、第二压力调节阀和若干个第二电磁阀，所述第二进气口截止阀、第二压力传感器、第二压力调节阀分别依次设置在辅助气体的输气管路上，若干个第二电磁阀分别并联设置在辅助气体的输气管路上，所述控制器分别连接第二进气口截止阀、第二压力传感器、第二压力调节阀和若干个第二电磁阀。

在本实用新型的一个优选实施例中，所述雾化气控制系统包括第三进气口截止阀、第三压力传感器、第三压力调节阀和若干个第三电磁阀，所述第三进气口截止阀、第三压力传感器、第三压力调节阀分别依次设置在雾化气体的输气管路上，若干个第三电磁阀分别并联设置在雾化气体的输气管路上，所述控制器分别连接第三进气口截止阀、第三压力传感器、第三压力调节阀和若干个第三电磁阀。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型结构简单、操作方便、工作稳定有效，可实现单气体输入和流量等的自动控制。

附图说明