[实用新型]一种基于LCOS技术的可视化曝光机有效
| 申请号: | 201820873035.X | 申请日: | 2018-06-07 |
| 公开(公告)号: | CN208444131U | 公开(公告)日: | 2019-01-29 |
| 发明(设计)人: | 孙雷;张洪波;张婧姣 | 申请(专利权)人: | 联士光电(深圳)有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 518000 广东省深圳市龙岗*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 曝光工件 光源 曝光机 反射 分光元件 光学元件 投影系统 对准 整形 偏振光 匀光元件 可视化 入射 相机 偏振分光元件 本实用新型 高分辨率 实时观测 光入射 光透过 和匀 套刻 投射 曝光 | ||
1.一种基于LCOS技术的可视化曝光机,其特征在于,包括曝光机光源(1)、对准光源(2)、45度二向光学元件(3)、整形匀光元件(4)、PBS(5)、LCOS(6)、45度分光元件(7)、投影系统(8)、待曝光工件(9)和相机(10);
其中,对准光源(2)经45度二向光学元件(3)反射,曝光机光源(1)发出的光透过45度二向光学元件(3),经整形匀光元件(4)的整形和匀光,p型偏振光通过PBS(5)后入射到高分辨率的LCOS(6)上,LCOS(6)反射的光为s型偏振光,经PBS(5)反射和45度分光元件(7)进入投影系统(8)再将目标曝光图形投射到待曝光工件(9),使待曝光工件(9)形成曝光;无论对准光源(2)通过光路系统是否投射对准图形或目标曝光图形时,曝光机光源(1)均可通过光路系统对待曝光工件(9)进行曝光,进而实现精准的部分视场或全视场曝光图案套刻;为缩小曝光机整体体积,所述曝光机在光路上任意位置加入一个或多个反射镜或棱镜,对光路进行折叠。
2.根据权利要求1所述的一种基于LCOS技术的可视化曝光机,其特征在于,所述曝光机光源(1)的波长范围为350~470nm。
3.根据权利要求1所述的一种基于LCOS技术的可视化曝光机,其特征在于,所述对准光源(2)的工作波长在曝光机所选定的波长之外,对准光源(2)的光通过光路系统最终入射到待曝光工件(9)表面并形成所需的对准图形或目标曝光图案,进而实现曝光精确定位。
4.根据权利要求1所述的一种基于LCOS技术的可视化曝光机,其特征在于,所述45度二向光学元件(3)包含45度二向色镜、45度合色棱镜,可将曝光机光源(1)与对准光源(2)合光耦合进入光路的元件;可采用对曝光机光源(1)的波段具有高透过率,对对准光源(2)的工作波段具有高反射率的二向光学元件,最终确保曝光机光源(1)透过45度二向光学元件(3)进入光路,对准光源(2)通过45度二向光学元件(3)反射进入光路;也可采用对曝光机光源(1)的波段具有高反射率,对对准光源(2)的工作波段具有高透过率的二向光学元件,最终确保曝光机光源(1)通过45度二向光学元件(3)反射进入光路,对准光源(2)透过45度二向光学元件(3)进入光路。
5.根据权利要求1所述的一种基于LCOS技术的可视化曝光机,其特征在于,所述整形匀光元件(4)对曝光机光源(1)发出的光进行匀光,并整形成和LCOS(6)长宽比相匹配的光,可以是积分棒,也可以是透镜阵列。
6.根据权利要求1所述的一种基于LCOS技术的可视化曝光机,其特征在于,所述PBS(5)可以是偏振分光棱镜也可以是偏振分光片,PBS(5)用于分光,对p型偏振光透过,对s型偏振光反射,s型偏振光与p型偏振光成90度角。
7.根据权利要求1所述的一种基于LCOS技术的可视化曝光机,其特征在于,所述LCOS(6)使入射p型偏振光转变成s型偏振光,通过控制LCOS(6)上每个像素的开关形成所需图形,LCOS(6)反射后的光线作为曝光图案的发生源,所述LCOS(6)具有大于等于1920 x 1080的分辨率。
8.根据权利要求1所述的一种基于LCOS技术的可视化曝光机,其特征在于,所述45度分光元件(7)对曝光机光源(1)和对准光源(2)发出的光部分透射部分反射,分光元件包含分光棱镜及分光片。
9.根据权利要求1所述的一种基于LCOS技术的可视化曝光机,其特征在于,所述投影系统(8)用于把光投影到待曝光工件(9),投影系统(8)由透镜组组成,可以是放大系统,也可以是缩小系统。
10.根据权利要求1所述的一种基于LCOS技术的可视化曝光机,其特征在于,所述待曝光工件(9)是表面一平面,和光路垂直。
11.根据权利要求1所述的一种基于LCOS技术的可视化曝光机,其特征在于,所述相机(10)用于实时观测待曝光工件待曝光工件(9),曝光机光源(1)和对准光源(2)入射到待曝光工件(9)的一部分光被待曝光工件(9)反射,经投影系统(8)后被45度分光元件(7)反射到相机(10),对待曝光工件(9)进行监测,同时为使相机(10)看清待曝光工件(9)的特征,在本光路系统任意位置耦合进不引起曝光的光源进行照明。
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