[实用新型]一种原子层沉积设备

权利要求书

1.一种原子层沉积设备，其特征在于，包括反应腔室、进气管、承载台、转速同步调节器以及电机；所述反应腔室一侧的下端设有进气口、另一侧的下端设有出气口；所述进气管竖直布设于所述反应腔室中，并与所述进气口连通，所述进气管上沿竖向方向设有若干气孔；所述承载台设于所述反应腔室的底部，所述电机设于所述反应腔室的下方，所述电机传动连接所述承载台，并带动所述承载台匀速转动；所述转速同步调节器连接所述电机和所述进气口，并用于控制所述电机的转速和所述进气口的进气时间以使通过所述进气口向所述反应腔室通入清洁气体所用时间满足所述承载台旋转一周用时的整数倍关系。

2.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述转速同步调节器还与所述出气口相连，用于控制所述电机的转速和经所述出气口出气的时间以使经所述出气口出气的时间亦满足所述承载台旋转一周用时的整数倍关系。

3.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述进气口的位置低于所述出气口的位置。

4.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述承载台用于承载晶圆的面与位于所述进气管上最低位置处气孔所在面平齐。

5.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述进气管有两根，一根通过所述进气口连通于反应气体的气源，另一根通过所述进气口连通于清洁气体的气源。

6.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述进气口有两个及以上，两个及以上的所述进气口与所述出气口间隔均匀布设于所述反应腔室的下端。

7.根据权利要求1所述的原子层沉积设备，其特征在于，还包括双喷雾器，所述进气口的进气端连通于所述双喷雾器。