[实用新型]清洁设备

说明书

本实用新型涉及用于清洁敏感的表面的清洁设备，包括第一输送装置，所述第一输送装置用于输送在1.5巴至14巴的压力范围中的作为运载气体的压缩空气，其中，第一输送装置通到喷射喷嘴中，所述喷射喷嘴具有会聚成狭窄部位的区段以及连接在其上的发散的区段，所述设备以及包括用于清洁溶液的第二输送装置，所述清洁溶液包括至少一个下列成分：液体的去污剂，酶，细菌，其中，第二输送装置同样通到喷射喷嘴中，并且所述设备包括压缩单元，所述压缩单元用于将清洁溶液的压力提高到高于压缩空气压力的压力水平。由此实现本实用新型的有益的技术效果：高的清洁作用。

技术领域

本实用新型涉及一种用于清洁设备。

背景技术

已经已知的是：在超高压射流仪器(从800巴的压力起)中附加地使用压缩空气。在此，较大的水量被相对小的空气量加载，以便实现较高的清洁作用。因为在这里以高压力射出的水量占优势，所以可观的力量施加到需清洁的部件上，这会导致损坏。尤其是在清洁由石墨制成的管或板时，在制造商方面只允许小的水压，所述水压大多不足以产生清洁力。例如40巴以上的水压或即使软型的喷射剂的添加物在次已经会导致部件的毁坏或表面的不希望的粗糙。

同样已知：将相对少量的水定量供给到压缩空气射流中，以用于清洁表面。在这里放弃清洁溶液或者喷射剂的输入。

实用新型内容

本实用新型的目的是：能够以小的射流压力轻柔但有效地清洁敏感的部件。

所述目的按照本实用新型通过用于清洁敏感的表面的清洁设备得以实现，其包括第一输送装置，所述第一输送装置用于输送在1.5巴至14巴的压力范围中的作为运载气体的压缩空气，其中，第一输送装置通到喷射喷嘴中，所述喷射喷嘴具有会聚成狭窄部位的区段以及连接在其上的发散的区段，以及所述清洁设备包括用于清洁溶液的第二输送装置，所述清洁溶液包括至少一个下列成分：液体的、例如碱性的或酸性的去污剂，酶，细菌，其特征在于，第二输送装置同样通到喷射喷嘴中，并且所述清洁设备包括压缩单元，所述压缩单元用于将清洁溶液的压力提高到高于压缩空气压力的压力水平。尤其是将运载气体、即压缩空气输送给喷射喷嘴，所述喷射喷嘴具有会聚成狭窄部位的区段和连接在其上的发散的区段，并且在任何情况下包括下列成分：即液体的、例如碱性的或酸性的去污剂、酶、细菌之一的清洁溶液优选在喷射喷嘴之前、必要时在喷射喷嘴中供给到运载气流中并且因此处于高速、至少接近音速或超音速。在试验中已示出：在压缩空气的例如6巴的相对小的压力和由此相对低的射流压紧力的情况下，已经实现与高压清洁器类似的或部分甚至超越的高的清洁作用，其也可以使固定的或粘的污物层松脱，而不侵蚀处于其下面的软的例如石墨制的表面。清洁作用在此非常快速地作用。尤其是附着需清洁的表面上的细菌和/或酶残留物破裂，从而结果是污染物松脱，并且液体的去污剂改变需清洁的表面的表面张力。由此实现本实用新型的有益的技术效果：高的清洁作用。

优选规定：设置有调节单元，所述第一输送装置和第二输送装置被引导至所述调节单元，并且在所述调节单元中可调节在清洁溶液与压缩空气之间的压差和/或量差。

按照本实用新型的一种优选的实施形式设置有混合单元，利用所述混合单元可以将水添加给清洁溶液。通过添加水，可以附加地有利于清洁效果或者减少清洁溶液的量。可选地在这里可能的是：在任何情况下暂时放弃清洁溶液的添加并且将纯净的水输送给压缩空气。就此而言可能的是：在用必要时含水的清洁溶液预清洁敏感的表面之后在第二清洁阶段中用压缩空气和水不用清洁溶液地实施(最终)清洁。因此，液体的、例如碱性的或酸性的去污剂的、酶的或细菌的残余物可以被去除并且可以以唯一的设备最后实施清洁。清洁过程由此总体上得到简化。

根据本实用新型优选规定：

喷射喷嘴构造为拉伐尔喷嘴和/或构造为喷射枪的组成部分；

作为调节单元的组成部分设置有阀，所述阀用于减少压缩空气的压力和/或用于减少输入管路中可选地掺有水的清洁溶液的压力和/或用于封锁第一和第二输送装置中的至少一个输送装置；