[实用新型]一种匀光装置及包括该匀光装置的发光设备有效
| 申请号： | 201820841201.8 | 申请日： | 2018-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN208672972U | 公开（公告）日： | 2019-03-29 |
| 发明（设计）人： | 陈林森;乔文;花尔凯;方宗豹 | 申请（专利权）人： | 苏州苏大维格光电科技股份有限公司;苏州维旺科技有限公司;苏州大学 |
| 主分类号： | G02F1/13357 | 分类号： | G02F1/13357;G02B27/09;G02B27/10 |
| 代理公司： | 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 | 代理人： | 唐静芳 |
| 地址： | 215000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 匀光装置 分光层 光谱 本实用新型 发光设备 光线散射 光源 光线出射 荧光物质 照明光谱 可见光 光分布 光激发 均匀度 量子点 散射 出射 扩宽 匀光 调制 转换 | ||
【权利要求书】：
1.一种匀光装置，其特征在于，包括分光层和拓宽光谱层，所述分光层对入射光进行散射，所述拓宽光谱层对散射后的光调制并拓宽光谱，所述分光层为衍射光学元件。
2.根据权利要求1所述的匀光装置，其特征在于，所述衍射光学元件上设有分光结构。
3.根据权利要求2所述的匀光装置，其特征在于，所述分光结构为微纳结构。
4.根据权利要求3所述的匀光装置，其特征在于，所述分光结构的排布结构为像素式、遍布式、沿衍射光学元件的周边均匀分布或在衍射光学元件成局部分布结构。
5.根据权利要求4所述的匀光装置，其特征在于，当所述分光结构在衍射光学元件上局部分布时，所述局部分布结构整体成环形或方形。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的匀光装置，其特征在于，所述分光层和拓宽光谱层之间还设有匀光片,所述匀光片用于将从分光层发出的光散射。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的匀光装置，其特征在于，所述拓宽光谱层为荧光层或量子点层。
8.一种发光设备，其特征在于，包括光源以及权利要求1至7中任一项所述的匀光装置。
9.根据权利要求8所述的发光设备，其特征在于，所述光源为主动式发光光源，所述主动式发光光源为LED光源。
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