[实用新型]成像光学系统及电子装置有效
申请号: | 201820796865.7 | 申请日: | 2018-05-25 |
公开(公告)号: | CN208156286U | 公开(公告)日: | 2018-11-27 |
发明(设计)人: | 邹海荣;兰宾利;其他发明人请求不公开姓名 | 申请(专利权)人: | 南昌欧菲精密光学制品有限公司 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 黄德海 |
地址: | 330096 江西省南昌市南昌*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透镜 成像光学系统 电子装置 屈折力 像侧面 凸面 本实用新型 圆周处 凹面 红外截止膜 红外滤光片 负屈折力 正屈折力 敏感度 物侧面 光轴 良率 模组 物侧 像侧 节约 | ||
本实用新型公开了一种成像光学系统及电子装置。成像光学系统包括多个透镜,多个透镜由物侧至像侧依次包括具有正屈折力的第一透镜、具有负屈折力的第二透镜、具有屈折力的第三透镜、具有屈折力的第四透镜和具有屈折力的第五透镜。第一透镜的物侧面为凸面,第一透镜的像侧面于光轴处为凹面,于圆周处为凸面,第二透镜的像侧面为凹面,第五透镜的像侧面于圆周处为凸面。多个透镜的表面中至少包括一个平面,成像光学系统还包括设置在平面上的红外截止膜。本实用新型的成像光学系统及电子装置中,减少了红外滤光片的使用,缩短整个成像光学系统的模组高度,且节约成本。另外,降低了成像光学系统的敏感度,提升了成像光学系统的良率。
技术领域
本实用新型涉及光学成像技术,更具体而言,涉及一种成像光学系统及电子装置。
背景技术
目前,成像光学系统一般包括多枚透镜,并且需要额外设置红外滤光片。红外滤光片用于调整成像的光线波长区段,具体用于隔绝红外光进入感光元件,从而防止红外光对正常影像色彩与清晰度造成影响。然而,额外设置的红外滤光片会增加整个成像光学系统的模组高度,且成本较高。
实用新型内容
本实用新型实施方式提供一种成像光学系统及电子装置。
本实用新型实施方式的成像光学系统包括多个透镜,所述多个透镜由物侧至像侧依次包括具有正屈折力的第一透镜、具有负屈折力的第二透镜、具有屈折力的第三透镜、具有屈折力的第四透镜和具有屈折力的第五透镜。所述第一透镜的物侧面为凸面,所述第一透镜的像侧面于光轴处为凹面,于圆周处为凸面,所述第二透镜的像侧面为凹面,所述第五透镜的像侧面于圆周处为凸面。所述多个透镜的表面中至少包括一个平面,所述成像光学系统还包括设置在所述平面上的红外截止膜。
本实用新型实施方式的成像光学系统的多个透镜中至少包含一个平面,并在平面上设置有红外截止膜,以减少红外滤光片的使用,缩短了整个成像光学系统的模组高度,且节约了成本。另外,通过平面的使用,降低了成像光学系统的敏感度,提升了成像光学系统的良率。
在某些实施方式中,所述多个透镜还包括具有负屈折力的第六透镜,所述第六透镜设置在所述第五透镜的像侧。成像光学系统可以由六个透镜组成,六个透镜的表面中至少包括一个平面。如此,以进一步提高成像质量。
在某些实施方式中,所述多个透镜的表面中至少包括一个非球面。如此,成像光学系统可以通过调节透镜表面的曲率半径和非球面系数,有效减小成像光学系统的总长度,并且多元化面型的使用可以有效地校正系统像差,提高成像质量。
在某些实施方式中,所述成像光学系统满足以下关系式:
10<TTL*f/tan(HFOV)<18;其中,TTL为所述第一透镜的物侧面至图像传感器的轴上间距,f为所述成像光学系统的焦距,HFOV为沿所述图像传感器的对角线方向的视场角的一半。
如此,一方面,能够实现成像光学系统的小型化,以搭载于轻薄便携式的电子产品上;另一方面,可以使得成像光学系统满足高像素的需求,解决成像光学系统低背化、大视场角中拍摄图片偏暗的问题,从而扩大成像光学系统可使用的时间和环境。
在某些实施方式中,所述成像光学系统满足以下关系式:
1<F12/f<2;其中,f为所述成像光学系统的焦距,F12为所述第一透镜与所述第二透镜的组合焦距。满足上述关系式,使得第一透镜和第二透镜具有比较合适的光焦度,以配合成像光学系统整体光焦度的配置,并且有利于校正像差,提高成像光学系统的成像品质。
在某些实施方式中,所述成像光学系统满足以下关系式:
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