[实用新型]用于近场多发多收阵列雷达成像的阵元分布结构及该阵列有效

专利信息
申请号: 201820791043.X 申请日: 2018-05-25
公开(公告)号: CN208207210U 公开(公告)日: 2018-12-07
发明(设计)人: 周剑雄;朱荣强 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科技大学
主分类号: G01S13/89 分类号: G01S13/89;G01S7/35
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 代理人: 马强;李美丽
地址: 410073 湖南*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 分布结构 阵元 共线 等间隔分布 子阵 成像 本实用新型 相邻阵元 阵列雷达 近场 成像结果 发射阵列 发射阵元 接收阵列 接收阵元 照射条件 中心距离 栅瓣
【说明书】:

本实用新型公开了一种用于近场多发多收阵列雷达成像的阵元分布结构及该阵列,多发多收阵列包括一发射阵列和一接收阵列;阵元分布结构包括第一分布结构和第二分布结构;第一分布结构为发射阵元的分布结构、第二分布结构为接收阵元的分布结构或反之;第一分布结构包括共线并等间隔分布的N2个子阵,各子阵包括共线并等间隔分布的N1个阵元,各子阵中相邻阵元间的距离为D1,相邻子阵间的中心距离为D2,第一分布结构中的所有阵元共线;第二分布结构包括共线并等间隔分布的N3个阵元,第二分布结构中相邻阵元间的距离为D3;N1≥2,N2≥2,N3>N1,D3=N1×D1,D2=N1×D3。本实用新型改善了多发多收阵列对目标的照射条件,提高了成像质量,并降低了成像结果中的栅瓣水平。

技术领域

本实用新型属于多发多收阵列技术领域,特别涉及一种用于近场多发多收阵列雷达成像的阵元分布结构及该阵列。

背景技术

在阵列雷达成像中,采用多发多收阵列可以降低阵元数目,缩短数据获取时间,增大照射范围等。但是,在近场条件下,采用多发多收阵列会导致成像结果中出现栅瓣,栅瓣的出现会显著影响后续对成像结果的解译。

在近场多发多收阵列雷达成像中,多发多收阵列的阵元分布结构直接决定成像结果中栅瓣的水平和位置,因此,如何设计多发多收阵列的阵元分布结构,使得成像结果中的栅瓣水平尽可能地低,是一个关键问题。

现有多发多收阵列的阵元分布结构主要有以下两种:

第一种为稀疏周期阵结构,如图1(图1是10发10收的稀疏周期阵结构)所示。在这种阵元分布结构中,发射阵列由两个发射子阵组成,每个发射子阵由M1个间隔为T1的发射阵元组成;接收阵列由M2个间隔为T2的接收阵元组成,相邻接收阵元的间隔为T2=M1×T1;两个发射子阵间的中心距离为M2×T2,所有的发射阵元分布在同一条直线上,所有的接收阵元分布在同一条直线上,发射阵列平行于接收阵列,发射阵列的中心点与接收阵列的中心点的连线垂直于发射阵列和接收阵列。在这种阵元分布结构中,上述发射阵元的分布结构和接收阵元的分布结构是可以互换的。

第二种为均匀稀疏阵结构,如图2(图2是10发11收的均匀稀疏阵结构)所示。在这种阵元分布结构中,发射阵元和接收阵元都是等间隔分布的,发射阵列的长度等于接收阵列的长度,但是发射阵元的间隔不等于接收阵元的间隔,所有的发射阵元分布在同一条直线上,所有的接收阵元分布在同一条直线上,发射阵列平行于接收阵列,发射阵列的中心点与接收阵列的中心点的连线垂直于发射阵列和接收阵列。

第一种阵元分布结构中,发射阵元分布在接收阵列的两端(或接收阵元分布在发射阵列的两端),使得多发多收阵列对部分目标会存在不充分的照射,降低成像质量。

第二种阵元分布结构中,接收阵元和发射阵元均为均匀分布,可以得到对目标较充分的照射,但是成像结果的栅瓣水平略高。

发明内容

本实用新型的目的在于,针对上述现有技术的不足,提供一种用于近场多发多收阵列雷达成像的阵元分布结构及该阵列,通过采用两个及以上均匀分布的子阵,改善了多发多收阵列对目标的照射条件,提高了成像质量,并降低了多发多收阵列成像结果中的栅瓣水平。

为解决上述技术问题,本实用新型所采用的技术方案是:

一种用于近场多发多收阵列雷达成像的阵元分布结构,所述多发多收阵列包括一发射阵列和一接收阵列,所述发射阵列包括多个发射阵元,所述接收阵列包括多个接收阵元;所述阵元分布结构包括第一分布结构和第二分布结构;

第一分布结构为发射阵元的分布结构、第二分布结构为接收阵元的分布结构;或者第一分布结构为接收阵元的分布结构、第二分布结构为发射阵元的分布结构;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军国防科技大学,未经中国人民解放军国防科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820791043.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top