[实用新型]印制品结构

说明书

本实用新型涉及印制品结构。所述印制品结构，包括承印层，印墨层和覆膜层；与印墨层接触的承印层的上表面设置有若干第一环形凹凸结构，与印墨层接触的覆膜层的下表面设置有若干第二环形凹凸结构；第一环形凹凸结构和第二环形凹凸结构的位置相互交错设置，以锁定印墨层。本实用新型印制品结构可以有效减少覆膜层从印制品上剥离，印墨层淡化的情况，从而提高印制品的保存年限。

技术领域

本实用新型涉及印制品结构。

背景技术

现有印制品通常是多层结构，例如可包括承印层、印墨层、覆膜层；现有印制品在使用过程中，通常还是会出现覆膜层从印制品上剥离，印墨层淡化至消失的情况，导致印制品保存年限有限。

实用新型内容

本实用新型提供一种印制品结构，其可以有效减少覆膜层从印制品上剥离，印墨层淡化的情况，从而提高印制品的保存年限。

为解决以上技术问题，本实用新型提供一种技术方案，即一种印制品结构，包括承印层，印墨层和覆膜层；与印墨层接触的承印层的上表面设置有若干第一环形凹凸结构，与印墨层接触的覆膜层的下表面设置有若干第二环形凹凸结构；

第一环形凹凸结构和第二环形凹凸结构的位置相互交错设置，以锁定印墨层。

优选的，所述第一环形凹凸结构和第二环形凹凸结构的环形宽度分别从外向内逐渐减小。

优选的，所述第一环形凹凸结构包括第一凸起和第一凹部，所述第二环形凹凸结构包括第二凸起和第二凹部；第一凸起和第一凹部对称设置，第二凸起和第二凹部对称设置。

优选的，相邻的第一环形凹凸结构和第二环形凹凸结构之间的间隔距离从外向内逐渐增大。

本申请印制品结构，其分别在承印层的上表面设置第一环形凹凸结构，在覆膜层的下表面设置第二环形凹凸结构，利用凹凸结构的设置增大印墨层分别与承印层和覆膜层之间的接触面积，并提高其两者之间的粘结力，从而有效减少覆膜层从印制品上剥离，印墨层淡化的情况，提高印制品的保存年限；另外，本申请方案中第一环形凹凸结构和第二环形凹凸结构的位置相互交错设置，这样的设置方式可以更好地提高承印层与覆膜层对印墨层的锁定程度，并且可以减少两者的制作难度。

附图说明

图1是本申请实施方式印制品结构的示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面将结合本实用新型实施方式中的附图，对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式仅仅是本实用新型一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本实用新型保护的范围。在不冲突的情况下，本实用新型中的实施方式及实施方式中的特征可以相互任意组合。

如图1所示，图1是本申请实施方式印制品结构的示意图。该实施方式的印制品结构，包括承印层1，印墨层3和覆膜层2；与印墨层3接触的承印层1的上表面1-1设置有若干第一环形凹凸结构1-2，与印墨层3接触的覆膜层2的下表面2-1设置有若干第二环形凹凸结构2-2；

第一环形凹凸结构1-2和第二环形凹凸结构2-2的位置相互交错设置，以锁定印墨层3。

所述第一环形凹凸结构1-2和第二环形凹凸结构2-2的环形宽度L1分别从外向内逐渐减小，相邻的第一环形凹凸结构1-2和第二环形凹凸结构2-2之间的间隔距离L2从外向内逐渐增大。

所述第一环形凹凸结构1-2包括第一凸起和第一凹部，所述第二环形凹凸结构2-2包括第二凸起和第二凹部；第一凸起和第一凹部对称设置，第二凸起和第二凹部对称设置。