[实用新型]具有高抗激光阈值的增透膜有效

专利信息
申请号: 201820760612.4 申请日: 2018-05-22
公开(公告)号: CN208255450U 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 高艺宁 申请(专利权)人: 苏州市天凯光电配件厂
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115
代理公司: 南京艾普利德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32297 代理人: 陆明耀
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 三氧化二铝层 氧化铪层 膜层 沉积 本实用新型 二氧化硅层 外轮廓 增透膜 折射率 高抗 镜头 激光 抗激光损伤 融石英玻璃 图标 低折射率 无放射性 激光器 散射 三层 破裂 吸收 损害
【说明书】:

实用新型揭示了一种具有高抗激光阈值的增透膜,包括紫外融石英玻璃制成的镜头,所述镜头上沉积有中折射率的三氧化二铝层,所述三氧化二铝层上沉积有锆折射率的氧化铪层,所述氧化铪层上沉积有低折射率的二氧化硅层,且所述三氧化二铝层、氧化铪层以及二氧化硅层的外轮廓与所述镜头的外轮廓一致。本实用新型的有益效果主要体现在:结构简单,设计精巧,这三层结合具有抗激光损伤阈值高,低散射,低吸收,膜层牢固,膜层相互间应力互补,膜层不易破裂的特性,同时,无放射性,不会对操作员以及环境造成损害,可满足在6KW/cm2,10ns的激光器下连续长时间工作,打出精准图标或文字。

技术领域

本实用新型涉及一种膜层,具体而言,尤其涉及一种具有高抗激光阈值的增透膜。

背景技术

目前,紫外波段355nm 激光镜头,由于聚焦光斑非常小,且加工热影响小,因而可以进行超精细打标,特殊材料打标,近乎完美的打标质量。打标精细并可重复加工,打标过程非接触,打标效果永久性。此类激光镜头适用范围大,热影响区域非常小,不会有热效应,材料不变形不烧焦,标记速度快,效率高等优点,广泛适用于民用产品的大部分打标领域。

如授权公告号CN1030577194B揭示了一种增透膜,该增透膜依次包括第一二氧化硅层、第二线性二氧化硅层和第 三二氧化硅层;所述第一二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径为 50-150nm,所述第三二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径为10-70nm ;所述第一二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径与第三二氧化硅层的二氧化硅颗粒的平均粒径比为 1-5 :1,但是该增透膜抗激光阈值相对较低,在长时间工作情况下会发生热变形。

现市场上的紫外波段355nm 激光镜头只能在用于低于200W/cm2,10ns 的激光能量,连续工作8 小时不变形。对于特殊领域例如航空航天,军工等领域,由于要在特殊材料,超硬质材料上打标,要求激光镜头要在6KW/cm2,10ns 的激光器下连续工作。目前市面上的激光镜头工作30 分钟就会产生热变形,导致镜头焦点偏移,成像弯曲,无法打出精准图标或文字。

实用新型内容

本实用新型的目的是克服现有技术存在的不足,提供一种具有高抗激光阈值的增透膜。

本实用新型的目的通过以下技术方案来实现:

一种具有高抗激光阈值的增透膜,包括紫外融石英玻璃制成的镜头,所述镜头上沉积有中折射率的三氧化二铝层,所述三氧化二铝层上沉积有锆折射率的氧化铪层,所述氧化铪层上沉积有低折射率的二氧化硅层,且所述三氧化二铝层、氧化铪层以及二氧化硅层的外轮廓与所述镜头的外轮廓一致。

优选的,所述三氧化二铝层的物理厚度为480~490埃。

优选的,所述氧化铪层的物理厚度为570~580埃。

优选的,所述二氧化硅层的物理厚度为555~560埃。

优选的,以真空蒸发的方式沉积所述三氧化二铝层、氧化铪层以及二氧化硅层。

优选的,所述镜头的表面粗糙度小于5埃。

本实用新型的有益效果主要体现在:

1、结构简单,设计精巧,这三层结合具有抗激光损伤阈值高,低散射,低吸收,膜层牢固,膜层相互间应力互补,膜层不易破裂,可满足在6KW/cm2,10ns 的激光器下连续长时间工作,打出精准图标或文字;

2、镜头、三氧化二铝层、氧化铪层以及二氧化硅层均无放射性,不会对操作员以及环境造成损害;

3、镜头的表面粗糙度小于5埃,可极大地提高激光损伤阈值,延长使用寿命。

附图说明

下面结合附图对本实用新型技术方案作进一步说明:

图1:本实用新型的结构示意图

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