[实用新型]一种深基坑液位控制装置

说明书

本实用新型公开了一种深基坑液位控制装置，包括保护箱，所述保护箱底部左右两侧均垂直安装有支撑柱，两组支撑柱底部均垂直安装于底座顶部左右两侧，所述保护箱顶部安装有吊环和电源线，所述保护箱底部上端外部开设有透水孔B，所述保护箱右侧面底端中部竖向开设有滑槽，所述滑槽内贯穿有螺纹杆，所述螺纹杆左侧底部安装有水浸传感器。本实用新型通过潜水泵可以通过转轴带动支撑横杆转动，支撑横杆通过过滤罩带动过滤罩外部的拨杆转动，使拨杆将过滤罩附近的大的碎石之类的颗粒物拨开，可以有效的防止过滤罩外部的透水孔A被粒径较大的碎石之类的颗粒物堵塞，导致潜水泵工作效率降低和潜水泵的损坏，较为实用，适合广泛推广与使用。

技术领域

本实用新型涉及一种液位控制装置，特别涉及一种深基坑液位控制装置。

背景技术

基坑是在基础设计位置按基底标高和基础平面尺寸所开挖的土坑。开挖前应根据地质水文资料，结合现场附近建筑物情况，决定开挖方案，并作好防水排水工作。开挖不深者可用放边坡的办法，使土坡稳定，其坡度大小按有关施工规定确定。开挖较深及邻近有建筑物者，可用基坑壁支护方法，喷射混凝土护壁方法，大型基坑甚至采用地下连续墙和柱列式钻孔灌注桩连锁等方法，防护外侧土层坍入。

目前，现有的基坑液位控制装置在对基坑内的液位进行控制时，均采用水泵直接将水抽出，但这种方法不能及时的对基坑内的水位进行控制，且基坑内的颗粒较大的碎石之类的颗粒物容易堵塞水泵底部的进水口，导致水泵的损坏。因此，我们提出一种深基坑液位控制装置。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种深基坑液位控制装置，可以有效解决背景技术中的问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种深基坑液位控制装置，包括保护箱，所述保护箱底部左右两侧均垂直安装有支撑柱，两组支撑柱底部均垂直安装于底座顶部左右两侧，所述保护箱顶部安装有吊环和电源线，所述保护箱底部上端外部开设有透水孔B，所述保护箱右侧面底端中部竖向开设有滑槽，所述滑槽内贯穿有螺纹杆，所述螺纹杆左侧底部安装有水浸传感器，所述螺纹杆左侧外部安装有限位块，所述螺纹杆右侧外部安装有蝴蝶螺母，所述蝴蝶螺母与螺纹杆螺纹连接，所述保护箱内腔底端中部安装有潜水泵，所述潜水泵的底部安装有进水口，所述进水口位于保护箱底端中部，所述进水口左侧中部连接有出水管，所述潜水泵底端中部通过转轴连接有支撑横杆，所述支撑横杆安装于过滤罩内部，所述过滤罩外部开设有透水孔A，所述过滤罩外部安装有拨杆，所述保护箱内腔顶部安装有中央处理器。

进一步的，所述电源线位于吊环右侧。

进一步的，所述限位块位于水浸传感器的右侧，所述限位块和水浸传感器均位于保护箱内腔内，所述蝴蝶螺母位于保护箱右侧外部。

进一步的，所述过滤罩位于两组支撑柱之间，所述进水口位于过滤罩内部。

进一步的，所述电源线的电能输出端与中央处理器、水浸传感器和潜水泵的电能输入端连接，所述水浸传感器的数据输出端与中央处理器的数据输入端连接，所述中央处理器的信号输出端与潜水泵的信号输入端连接。

进一步的，所述中央处理器的型号为ATTINY85-20SU，所述潜水泵的型号为150WQ100-8-4，所述水浸传感器的型号为S3-WDT-P。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：

1.本实用新型的一种深基坑液位控制装置，通过在保护箱有右侧面底端中部竖向开设有滑槽，通过拧松蝴蝶螺母，使螺纹杆可以在滑槽内上下滑动，使螺纹杆带动水浸传感器沿滑槽上下滑动，然后再将蝴蝶螺母拧紧，就可以使水浸传感器的位置固定，可以设置基坑内的液位深度，使基坑内水位控制高度可以更加方便的进行调节。