[实用新型]一种用于高磁感取向硅钢渗氮处理的氨气喷管结构有效
申请号: | 201820728259.1 | 申请日: | 2018-05-16 |
公开(公告)号: | CN208485937U | 公开(公告)日: | 2019-02-12 |
发明(设计)人: | 张波 | 申请(专利权)人: | 武汉尚瑞科技有限公司 |
主分类号: | C23C8/26 | 分类号: | C23C8/26 |
代理公司: | 北京京万通知识产权代理有限公司 11440 | 代理人: | 万学堂 |
地址: | 430415 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氨气喷管 氨气 喷气孔 钢带 高磁感取向硅钢 渗氮处理 炉壳 伸进 运动方向垂直 本实用新型 出气方向 使用效率 运行方向 中心连线 垂直线 夹角为 退出 带钢 喷出 喷孔 渗氮 斜向 分解 | ||
1.一种用于高磁感取向硅钢渗氮处理的氨气喷管结构,包括炉壳、氨气喷管,该氨气喷管可伸进和退出炉壳,该氨气喷管伸进和退出的运动方向与钢带的运动方向垂直,该氨气喷管上设有若干喷气孔,其特征在于:喷气孔斜向对着钢带的运动方向,氨气喷管中心和该喷气孔之间的连接射线与垂直线的夹角为〆。
2.根据权利要求1所述的氨气喷管结构,其特征在于:氨气喷管中心和该喷气孔之间的连接射线与垂直线呈的夹角为〆为30°到60°。
3.根据权利要求1所述的氨气喷管结构,其特征在于:夹角为〆为45°。
4.根据权利要求1所述的氨气喷管结构,其特征在于:所述的若干喷气孔呈直线排列,该直线与喷气管的轴心线平行。
5.根据权利要求1所述的氨气喷管结构,其特征在于:所述的喷气孔之间的间距为40mm到100mm,喷气孔的孔径为2mm到4mm。
6.根据权利要求5所述的氨气喷管结构,其特征在于:所述的喷气孔之间的间距为30mm,喷气孔的孔径为3mm。
7.根据权利要求1所述的氨气喷管结构,其特征在于:所述的氨气喷管与钢带的垂直距离H为150mm-300mm,所述的氨气喷管与钢带的垂直距离H为200mm。
8.根据权利要求1所述的氨气喷管结构,其特征在于:所述的氨气喷管两侧的喷气孔之间的距离大于钢带的宽度,喷气孔的范围完全覆盖钢带的宽度。
9.根据权利要求1所述的氨气喷管结构,其特征在于:所述的氨气喷管材质为碳化硅。
10.根据上述权利要求1至9任意一项所述的氨气喷管结构,其特征在于:在钢带的上方设有一根氨气喷管,在钢带的下方设有另一根氨气喷管。
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