[实用新型]基板处理装置

说明书

本实用新型涉及基板处理装置，包括：基板放置部，其放置基板；研磨单元，其相对于基板进行移动并研磨基板的上表面；流体喷射单元，其沿着研磨单元相对于基板的移动方向，配备于研磨单元的后方，向基板喷射流体，借助于此，可以获得使研磨颗粒等异物在基板固着实现最小化、提高清洗效率的有利效果。

技术领域

本实用新型涉及基板处理装置，更具体而言，涉及一种能够使研磨颗粒等异物在基板固着实现最小化、提高清洗效率的基板处理装置。

背景技术

最近，随着对信息显示装置关心的高涨，对要利用能携带的信息介质的要求正在提高，同时正在重点进行对替代原有显示装置的阴极射线管(Cathode Ray Tube；CRT)的轻薄型平板显示装置(Flat Panel Display；FPD)的研究及商业化。

在这种平板显示装置领域，迄今轻巧且耗电少的液晶显示装置(Liquid CrystalDisplay Device；LCD)是最受瞩目的显示装置，但液晶显示装置不是发光元件而是受光元件，在亮度、对比度(contrast ratio)及视角等方面存在缺点，因此正在开展对能够克服这种缺点的新显示装置的活跃开发。其中，作为最近倍受瞩目的新一代显示装置之一，有有机发光显示装置(OLED：Organic Light Emitting Display)。

一般而言，显示装置中使用强度及透过性优秀的玻璃基板，最近，显示装置指向紧凑化及高像素(high-pixel)，因而应可以准备与此相应的玻璃基板。

作为一个示例，作为OLED工序之一，在向非晶硅(a-Si)照射激光而结晶成多晶硅(poly-Si)的ELA(Eximer Laser Annealing，准分子激光晶化)工序中，在多晶硅结晶的同时，表面会发生凸起，这种凸起可能发生不均衡现象(mura-effects)，因此，玻璃基板应进行研磨处理，以便去除凸起。

为此，最近进行了旨在高效研磨基板表面的多种研究，但还远远不够，要求对此进行开发。

实用新型内容

所要解决的技术问题

本实用新型目的是提供一种能够使研磨颗粒等异物在基板固着实现最小化、提高清洗效率的基板处理装置。

特别是本实用新型目的是，在进行对基板的研磨工序期间，能够在保障基板的润湿状态的同时进行基板的清洗，能够防止因异物残留及基板干燥导致的基板损伤。

另外，本实用新型目的是，能够在基板残留的异物固化之前，在最快时间内有效清洗。

另外，本实用新型目的是，能够提高研磨效率及研磨均匀度。

另外，本实用新型目的是，提供一种能够提高基板的处理效率、简化处理工序的基板处理装置。

另外，本实用新型目的是，能够提高基板的清洗效率，能够提高收率。

另外，本实用新型目的是，能够提高设计自由度，能够有助于设备的小型化。

另外，本实用新型目的是，能够缩短处理基板所需的时间、提高生产率。解决技术问题的方案

根据旨在达成所述本实用新型目的的本实用新型优选实施例，在进行对基板的研磨工序期间，在保障基板的润湿状态的同时实现基板的清洗，借助于此，能够使在基板研磨面干燥的同时研磨颗粒等在研磨面固化实现最小化。

根据旨在达成本实用新型目的的本实用新型的基板处理装置，用于进行基板的研磨工序，包括：基板放置部，其放置基板；研磨单元，其相对于所述基板进行移动，研磨所述基板的上表面；流体喷射单元，其沿着所述研磨单元相对于所述基板的移动方向，配备于所述研磨单元的后方，向所述基板喷射流体。