[实用新型]由立式钻床改装而成的内圆抛光装置

说明书

本实用新型公开了一种由立式钻床改装而成的内圆抛光装置，涉及工件加工设备，旨在解决生产成本过高的问题，其技术方案要点是：一种由立式钻床改装而成的内圆抛光装置，包括钻床本体，所述钻床本体包括底座、竖直固定于底座上端面的立柱、沿立柱长度方向滑动的升降座，以及固定安装于升降座上的交流电机，所述交流电机的输出轴竖直向下，并固定设置有抛光柱，所述抛光柱呈圆柱状，其外圆周面设置有磨砂层，所述底座上表面安装有三抓卡盘，所述三抓卡盘的中心处于抛光柱的中轴线之上。本实用新型的一种由立式钻床改装而成的内圆抛光装置，通过改装钻床对工件进行内圆抛光，从而减少了设备的投入，有效降低生产成本。

技术领域

本实用新型涉及工件加工设备，更具体地说，它涉及一种由立式钻床改装而成的内圆抛光装置。

背景技术

抛光装置是对工件的表面进行打磨的设备，一般为工件加工中的最后一道工序，其目的在于降低工件表面的粗糙度，确保工件具备光滑的表面。

当需要加工的环套类工件，不仅需要对其外圆进行抛光处理，还需要对其内圆进行抛光处理，在现有技术中，工件的抛光一般由抛光机完成。

在抛光环套类工件的外圆时，需要控制工件自身高速旋转，但是在抛光环套类工件的内圆时，则需要控制磨具高速旋转，从而导致在加工环套类工件时必须购置两种不同的抛光机，存在生产成本过高的问题；因此需要提出一种新的方案来解决这个问题。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种由立式钻床改装而成的内圆抛光装置，通过改装钻床对工件进行内圆抛光，从而减少了设备的投入，有效降低生产成本。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种由立式钻床改装而成的内圆抛光装置，包括钻床本体，所述钻床本体包括底座、竖直固定于底座上端面的立柱、沿立柱长度方向滑动的升降座，以及固定安装于升降座上的交流电机，所述交流电机的输出轴竖直向下，并固定设置有抛光柱，所述抛光柱呈圆柱状，其外圆周面设置有磨砂层，所述底座上表面安装有三抓卡盘，所述三抓卡盘的中心处于抛光柱的中轴线之上。

通过采用上述技术方案，当需要对工件的内圆进行抛光处理时，通过三抓卡盘夹紧工件，启动交流电机带动抛光柱高速旋转；向下滑动升降座带动抛光柱下移直至抛光柱插入到工件的内圆，从而高速旋转的抛光柱与工件的内圆发生摩擦，进而由磨砂层完成工件内圆的抛光处理；当完成工件内圆的抛光处理后，沿立柱向上滑动升降座，从而迫使抛光柱拔出并远离工件内圆；综上所述，通过对立式钻床进行改装，使其具备抛光工件内圆的功能，从而无需另外采购内圆抛光机，有效降低生产设备的投入，进而降低生产成本。

本实用新型进一步设置为：所述立柱沿长度方向固定设置有截面呈T形的滑轨，所述升降座竖直贯穿开设有与滑轨滑移配合的滑槽。

通过采用上述技术方案，升降座通过滑槽和滑轨之间的配合，实现滑移连接于立柱上的技术要求；同时，通过滑轨和滑槽的形状设计，有效防止升降座脱离于立柱。

本实用新型进一步设置为：滑轨的数量为两根，所述立柱于两根滑轨之间开设有容纳槽，沿所述容纳槽的长度方向转动连接有丝杆，所述升降座固定设置有与丝杆螺纹配合的螺纹套。

通过采用上述技术方案，运用两根滑轨，相较于一根滑轨，有效提高了升降座与立柱的连接稳定性；当需要控制升降座下移时，顺时针转动丝杆，丝杆螺纹套配合产生向下螺纹推进力，从而推动升降座下移，当需要控制升降座上移时，逆时针转动丝杆，丝杆在转动的过程中与螺纹套配合产生向上的螺纹推进力，从而推动升降座上移；综上所述，仅需控制丝杆的转动方向，即可控制升降座上移或者下移，达到控制升降座更加便利的技术效果。

本实用新型进一步设置为：所述丝杆顶端延伸出立柱顶端，并连接有步进电机。

通过采用上述技术方案，由步进电机直接驱动丝杆转动，从而为控制丝杆的转动提供便利。