[实用新型]光刻胶涂布工艺中的晶圆清洗装置

权利要求书

1.一种光刻胶涂布工艺中的晶圆清洗装置，其特征在于，包括：

基座，所述基座上连接旋转臂，所述旋转臂上设置有支撑盘，所述支撑盘用于承载并固定晶圆；

工作平台，所述工作平台内对应所述晶圆的上表面处设置有上边缘清洗喷嘴、对应所述晶圆的侧缘处设置有第一侧缘清洗喷嘴及对应所述晶圆的下表面处设置有第一下边缘清洗喷嘴，所述第一侧缘清洗喷嘴的喷洗方向斜向于所述上边缘清洗喷嘴的喷洗方向和所述第一下边缘清洗喷嘴的喷洗方向之间的内夹角间，用于清洗所述晶圆的侧缘；

旋杯，用于回收由所述晶圆上溅出的光刻胶，所述旋杯环绕所述支撑盘，且不与所述支撑盘接触，所述第一侧缘清洗喷嘴设置在所述旋杯的顶部内侧，所述第一侧缘清洗喷嘴工作时与所述晶圆保持同一水平高度，所述第一侧缘清洗喷嘴的喷洗方向斜向于所述晶圆的中心点。

2.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述工作平台内对应所述晶圆的另一侧缘处设置有第二侧缘清洗喷嘴及对应所述晶圆的另一下表面处设置有第二下边缘清洗喷嘴。

3.根据权利要求2所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述第一侧缘清洗喷嘴和所述第二侧缘清洗喷嘴的喷嘴口直径介于0.3毫米～5毫米，所述第一侧缘清洗喷嘴和所述第二侧缘清洗喷嘴的喷嘴长度介于1毫米～100毫米。

4.根据权利要求3所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述第一侧缘清洗喷嘴和所述第二侧缘清洗喷嘴喷出的液体流量介于20毫升/分钟～50毫升/分钟。

5.根据权利要求2所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述第一下边缘清洗喷嘴和所述第二下边缘清洗喷嘴用于从下向上斜向冲洗所述晶圆的下表面边缘。

6.根据权利要求5所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述第一下边缘清洗喷嘴和所述第二下边缘清洗喷嘴与所述晶圆的下表面边缘之间的距离介于0.1毫米～10毫米，所述第一下边缘清洗喷嘴和所述第二下边缘清洗喷嘴与所述晶圆下表面之间的夹角介于45度～60度。

7.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述上边缘清洗喷嘴的喷洗边缘与所述晶圆的上表面边缘之间的距离介于40毫米～50毫米，所述上边缘清洗喷嘴的喷洗方向与所述晶圆的上表面边缘之间的夹角介于30度～40度。

8.根据权利要求7所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述上边缘清洗喷嘴的直径介于0.9毫米～1.2毫米，所述上边缘清洗喷嘴喷出的液体流量介于45毫升/分钟～85毫升/分钟。