[实用新型]一种用于二极管制备的碱洗机有效
| 申请号: | 201820655472.4 | 申请日: | 2018-05-03 |
| 公开(公告)号: | CN208077945U | 公开(公告)日: | 2018-11-09 |
| 发明(设计)人: | 黄发良;黄祥旺;陈振威;黄志和 | 申请(专利权)人: | 黄山市弘泰电子有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙) 44240 | 代理人: | 李振泉;杨大庆 |
| 地址: | 245614*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 支架 水槽 碱洗装置 碱洗 本实用新型 二极管 排水口 滑轨 制备 横向驱动机构 纵向驱动机构 驱动 工序过程 滑轨移动 碱洗工序 可拆卸的 人力物力 有效解决 传统的 集水槽 进水管 滑动 盛放 | ||
1.一种用于二极管制备的碱洗机,其特征在于:包括支架,设置在支架上的一组可拆卸的水槽,支架上对应各水槽设置有进水管,水槽的底部设置排水口,支架的底部位于排水口的下方设置有集水槽;支架位于水槽的上方设置有滑轨,滑轨上设置有可延其滑动的用于盛放产品的碱洗装置,支架还设置有用于驱动碱洗装置沿滑轨移动的横向驱动机构及用于驱动碱洗装置上升下降的纵向驱动机构。
2.根据权利要求1所述的用于二极管制备的碱洗机,其特征在于:纵向驱动机构包括设置在支架上的纵向驱动气缸,纵向驱动气缸的活塞部和碱洗装置联接用于带动碱洗装置移入、移出水槽,并在水槽内上、下反复运动。
3.根据权利要求1所述的用于二极管制备的碱洗机,其特征在于:水槽每三个一组,每组水槽对应一台碱洗装置,每组水槽按碱洗顺序依次包括碱洗槽、热水清洗槽、冷水清洗槽,相邻两组水槽之间设置有一热水清洗槽。
4.根据权利要求1至3任意一项所述的用于二极管制备的碱洗机,其特征在于:碱洗装置包括背板及设置在背板底部的料框,料框内放置有可提出的料盘,料盘的底部呈网状。
5.根据权利要求4所述的用于二极管制备的碱洗机,其特征在于:碱洗槽和热水清洗槽的底部均设置有加热盘管。
6.根据权利要求5所述的用于二极管制备的碱洗机,其特征在于:碱洗槽和热水清洗槽内还分别设置有水深检测装置、温度检测仪,碱洗槽内还设置有酸碱度检测装置。
7.根据权利要求6所述的用于二极管制备的碱洗机,其特征在于:水槽设置有两组,共设置七个水槽,按碱洗槽、热水清洗槽、冷水清洗槽、热水清洗槽、冷水清洗槽、热水清洗槽、碱洗槽的顺序依次排列,两组水槽共用一个位于中间位置的热水清洗槽。
8.根据权利要求1所述的用于二极管制备的碱洗机,其特征在于:集水槽对应各水槽分别设置有一个,其位于各水槽排水口的下方,支架对应集水槽位置设置有集水槽进出口。
9.根据权利要求7所述的用于二极管制备的碱洗机,其特征在于:支架上还设置有一组和水深检测装置、酸碱度检测装置、温度检测仪相对应的显示装置。
10.根据权利要求9所述的用于二极管制备的碱洗机,其特征在于:还包括控制装置,设置在进水管、加热盘管上的电磁阀,控制装置和纵向驱动装置、横向驱动机构、电磁阀、水深检测装置、酸碱度检测装置、温度检测仪联接。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





