[实用新型]一种保护膜、显示面板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201820648156.4 申请日: 2018-05-02
公开(公告)号: CN208044997U 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: 王伟;王小芬;倪静凯;詹志锋 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G09F9/00 分类号: G09F9/00;B32B27/36;B32B7/12;B32B27/06;B32B33/00
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示基板 保护膜 上保护层 红外阻挡 激光能量 显示面板 显示装置 本实用新型 投影覆盖 半切割 切割区 膜层 投影 切割 激光 损伤 阻挡 扩散 保留 覆盖
【说明书】:

实用新型涉及显示技术领域,公开了一种保护膜、显示面板及显示装置,该保护膜用于覆盖于显示基板上,包括:设于显示基板上的上保护层、设于上保护层与显示基板之间的红外阻挡层,红外阻挡层在显示基板上的投影覆盖上保护层的切割区在显示基板上的投影,上述保护膜中,位于上保护层和显示基板之间的红外阻挡层对激光能量有一定的阻挡作用,当对上述保护膜进行激光半切割时,调节适当的激光能量,可以使保护膜的上保护层切割完全,使需要被揭离的保护膜顺利揭离而不影响保留的保护膜,又可以避免激光能量扩散至显示基板,避免显示基板上的其他膜层被损伤。

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域,特别涉及一种保护膜、显示面板及显示装置。

背景技术

目前为了提高生产效率,在目前柔性工艺流程中需要对基板进行整面保护膜的贴合,当进行后续工艺时使用激光切割对Bonding区域的上保护膜进行半切割,从而将Bonding区域的上保护膜取下。但是,激光半切割时会出现激光能量不稳定或者膜层厚度差异、切割平台不平整等因素,会导致进行半切割处的膜层出现切割过深,导致边框区域的引线被切断或者导致该处膜层发生分离引起信赖性失效,或者,切割过浅,使保护膜无法切断,导致在自动化揭膜时会出现把有效显示区的保护膜掀起甚至揭离的状况。

实用新型内容

本实用新型提供了一种保护膜、显示面板及显示装置,该保护膜中,位于上保护层和显示基板之间的红外阻挡层对激光能量有一定的阻挡作用,当对上述保护膜进行激光半切割时,调节适当的激光能量,可以使保护膜的上保护层切割完全,使需要被揭离的保护膜顺利揭离而不影响保留的保护膜,又可以使激光能量不会扩散至显示基板,避免显示基板上的其他膜层被损伤。

为达到上述目的,本实用新型提供以下技术方案:

一种保护膜,用于覆盖于显示基板上,包括:设于所述显示基板上的上保护层、设于所述上保护层与所述显示基板之间的红外阻挡层,所述红外阻挡层在所述显示基板上的投影覆盖所述上保护层的切割区在所述显示基板上的投影。

上述保护膜中,保护膜覆盖于显示基板上,包括设于显示基板上的上保护层和设于显示基板与上保护层之间的红外阻挡层,其中,红外阻挡层在显示基板上的投影覆盖上保护层的切割区在显示基板上的投影,当需要将与显示基板的边框区域对应的保护膜去除时,对保护膜进行激光半切割时,激光沿上保护层指向红外阻挡层的方向照射,当激光切至红外阻挡层时,红外阻挡层可以阻挡激光能量进一步向显示基板扩散,由于红外阻挡层可以对激光能量有一定的阻挡作用,可以调节适当的激光能量,使激光既可以将上保护层完全切割,又不会传递至显示基板,保护显示基板上的各膜层结构,即,可以避免切割过浅或切割过深的状况,既可以使需要被揭离的保护膜从显示基板上顺利取下,且不影响保留在显示基板上的保护膜,又可以对显示基板起到保护作用,使显示基板上的各膜层不受损伤,避免对显示基板造成不良。

上述保护膜中,位于上保护层和显示基板之间的红外阻挡层对激光能量有一定的阻挡作用,当对上述保护膜进行激光半切割时,调节适当的激光能量,可以使保护膜的上保护层切割完全,使需要被揭离的保护膜顺利揭离而不影响保留的保护膜,又避免激光能量扩散至显示基板,避免显示基板上的其他膜层被损伤。

优选地,所述上保护层通过胶层粘结于所述显示基板。

优选地,所述胶层内掺杂有红外阻挡材料以形成所述红外阻挡层。

优选地,所述胶层内全部掺杂有所述红外阻挡材料;或者,

所述胶层内仅与所述上保护层的切割区相对的部位掺杂有红外阻挡材料。

优选地,所述红外阻挡层包括掺杂有红外阻挡材料的膜层,且所述红外阻挡层设置于所述胶层与所述显示基板之间,或者,所述红外阻挡层设置于所述胶层与所述上保护层之间。

优选地,所述红外阻挡层在所述显示基板上的投影与所述上保护层在所述显示基板上的投影重合;或者,

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820648156.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top