[实用新型]一种用于旋转反应器的支撑机构有效
| 申请号： | 201820644030.X | 申请日： | 2018-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN208494236U | 公开（公告）日： | 2019-02-15 |
| 发明（设计）人： | 李伟;詹蓉;史玉芬;宋梦歧 | 申请（专利权）人： | 江苏远方迪威尔设备科技有限公司 |
| 主分类号： | B01J19/28 | 分类号： | B01J19/28 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人： | 李德溅;夏平 |
| 地址： | 214206 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 旋转反应器 支撑机构 安装底板 本实用新型 轴向窜动量 顶凹槽 上滑道 下滑道 滑道 滑块 焊接 结构底座 相对设置 有效解决 支撑结构 轴向窜动 磨损量 机身 腔体 转动 容纳 支撑 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于旋转反应器的支撑机构，其特征在于：所述的支撑机构包括能够固定在结构底座上的安装底板（1），安装底板（1）的上方设有用于支撑旋转反应器机身的支座（2），在安装底板（1）的顶部焊接有带顶凹槽（31）的下滑道副（3）且支座（2）的底部焊接有带底凹槽（41）的上滑道副（4），顶凹槽（31）和底凹槽（41）相对设置且两者构成一个能够容纳滑块（5）的腔体，所述的下滑道副（3）、滑块（5）和上滑道副（4）构成一个完整的滑道副。
2.根据权利要求1所述的用于旋转反应器的支撑机构，其特征在于：所述下滑道副（3）的下平面和上滑道副（4）的上平面之间留有间隙（6）。
3.根据权利要求2所述的用于旋转反应器的支撑机构，其特征在于：所述间隙（6）的高度与滑块（5）的高度之比为10～15:100。
4.根据权利要求1所述的用于旋转反应器的支撑机构，其特征在于：所述滑块（5）的长度小于顶凹槽（31）和底凹槽（41）的长度。
5.根据权利要求1或4所述的用于旋转反应器的支撑机构，其特征在于：所述滑块（5）的长度和顶凹槽（31）和底凹槽（41）的长度之比皆为90～95:100。
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