[实用新型]微波等离子体化学气相沉积装置有效
| 申请号: | 201820640006.9 | 申请日: | 2018-05-02 |
| 公开(公告)号: | CN209522922U | 公开(公告)日: | 2019-10-22 |
| 发明(设计)人: | 马懿;马修·L·斯卡林;朱金华;吴建新;缪勇;卢荻;艾永干 | 申请(专利权)人: | 苏州贝莱克晶钻科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/517 | 分类号: | C23C16/517 |
| 代理公司: | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人: | 王锋;王茹 |
| 地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 微波等离子体化学气相沉积 等离子体天线 耦合 惰性气体 耦合天线 介质管 转换腔 惰性气体密封 本实用新型 电极设置 电极 波导管 天线 延伸 申请 | ||
1.一种微波等离子体化学气相沉积装置,采用等离子体天线作为耦合天线,
所述等离子体天线包括介质管、惰性气体和电极,所述惰性气体密封于所述介质管内,所述电极设置于所述惰性气体的两端,
装置还包括波导管和耦合转换腔,耦合天线的一端延伸于所述耦合转换腔内。
2.根据权利要求1所述的微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于:所述介质管为石英玻璃管。
3.根据权利要求1所述的微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于:所述波导管包括第一波导管和第二波导管,第二波导管连接于所述第一波导管和耦合转换腔之间,所述第二波导管与第一波导管垂直设置;耦合天线与第二波导管同轴设置。
4.根据权利要求3所述的微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于:所述第一波导管为矩形波导管,耦合转换腔为圆形波导管。
5.根据权利要求3所述的微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于:还包括微波源,微波源所产生的微波的功率为6~75kW,频率为915MHz~2.45GHz。
6.根据权利要求5所述的微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于:第一波导管和微波源之间设置有调配器。
7.根据权利要求6所述的微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于:调配器采用三螺钉阻抗调配器。
8.根据权利要求6所述的微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于:调配器和第一波导管之间设置有过渡波导。
9.根据权利要求8所述的微波等离子体化学气相沉积装置,其特征在于:过渡波导采用WR340to 284。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州贝莱克晶钻科技有限公司,未经苏州贝莱克晶钻科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820640006.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:微波等离子体化学气相沉积装置
- 下一篇:微波等离子体化学气相沉积装置
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





