[实用新型]一种气浮装置、工件台和光刻机

说明书

本实用新型公开了一种气浮装置、工件台和光刻机，该气浮装置包括承载单元和气浮单元；所述承载单元固定连接于所述气浮单元的第一表面；所述气浮单元包括多个出气口，所述多个出气口在所述气浮单元的第二表面呈阵列分布；所述气浮单元的第二表面与第一表面相对设置。本实用新型的技术方案通过在气浮单元的第二表面设置呈阵列分布的出气口，使气浮装置的第二表面受力均匀，变形小，从而提高了气浮装置的气浮刚度。

技术领域

本实用新型涉及半导体器件加工技术领域，尤其涉及一种气浮装置、工件台和光刻机。

背景技术

气浮装置是为紧密运动台提供气浮轴承支撑、以保证运动台在气浮平台(一般为大理石气浮平台)上作无摩擦运动的关键部件，一般包括气浮单元和预紧力单元。现有的气浮装置通常为方形气浮装置，在气浮装置的底面四个顶角处设置气浮单元，中部为真空预紧力单元。气浮装置工作时，气浮单元中通入正压气体，在气浮装置与气浮平台之间形成气膜，使气浮装置受到气浮力的支撑作用，保证气浮装置在气浮平台上作无摩擦运动，而真空预紧力单元则通入负压气体，使气浮装置受到与气浮力大小相等、方向相反的真空预紧力作用，从而保证气浮装置受力平衡。通过调节气浮力与真空预紧力的大小，即可调节气浮装置的气浮刚度。

此时，若要提高气浮装置的气浮刚度，需要同时增加气浮力和真空预紧力，而随着真空预紧力的增加，气浮装置底面中部会产生弯曲，从而使气浮装置与气浮平台之间的距离变小。由于气浮装置与气浮平台之间的气膜厚度通常只有几微米到十几微米，因此，当气浮装置底面中部的弯曲量过大、与气浮平台接触时，气浮装置与气浮平台之间将产生机械摩擦，导致气浮装置失去作用。

实用新型内容

本实用新型提供一种气浮装置、工件台和光刻机，以使气浮单元受力均匀，变形小，从而提高气浮刚度。

第一方面，本实用新型实施例提出一种气浮装置，该气浮装置包括：承载单元和气浮单元；

所述承载单元固定连接于所述气浮单元的第一表面；

所述气浮单元包括多个出气口，所述多个出气口在所述气浮单元的第二表面呈阵列分布；

所述气浮单元的第二表面与第一表面相对设置。

进一步地，所述气浮单元还包括至少一个进气口，以及连通所述至少一个进气口与所述多个出气口的气路；

其中，所述至少一个进气口位于所述气浮单元的第三表面，所述第三表面连接所述第一表面与所述第二表面。

进一步地，还包括多个出气孔道，所述气路包括交叉连通的第一气路与第二气路；

每个所述出气孔道的第一开口形成一所述出气口，所述出气孔道的第二开口与所述第一气路和所述第二气路连通，所述出气孔道的第二开口设置于所述第一气路与所述第二气路的连通处。

进一步地，还包括多个堵头接口；

所述多个堵头接口设置于所述第一气路位于所述气浮单元的第三表面的开口处，以及所述第二气路位于所述气浮单元的第三表面的开口处；

在所述第一气路和所述第二气路在所述第三表面的开口，未设置所述堵头接口的开口构成所述进气口。

进一步地，还包括多个密封结构；

所述密封结构用于密封所述堵头接口；

所述密封结构的数量等于所述堵头接口的数量。

进一步地，还包括均压机构；

所述均压机构位于所述气浮单元的第二表面；

所述均压机构连接至少部分所述出气口。

进一步地，所述均压机构包括第一均压槽和第二均压槽；