[实用新型]一种区域表面等离子体增强超薄宽带复合吸收膜有效
| 申请号： | 201820608764.2 | 申请日： | 2018-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN208395261U | 公开（公告）日： | 2019-01-18 |
| 发明（设计）人： | 俞科;郭廷玮 | 申请（专利权）人： | 常州龙腾光热科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/10;C23C14/06 |
| 代理公司： | 南京钟山专利代理有限公司 32252 | 代理人： | 戴朝荣 |
| 地址： | 213100 江苏省常州市武进*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 纳米层 吸收膜 电介质 等离子体增强 本实用新型 纳米膜层 区域表面 溅射 宽带 吸收率 蜂窝状孔隙结构 复合 表面等离子 不锈钢基 等离激元 光学特性 局部表面 纳米结构 中频电源 共聚焦 光电场 光子学 波长 镀覆 共振 嵌入 干涉 | ||
1.一种区域表面等离子体增强超薄宽带复合吸收膜，其特征在于：由上而下依次为Ag+SiO2纳米层、SiO2纳米层、Ag纳米层和Si纳米层，其中，所述Ag+SiO2纳米层中，Ag纳米颗粒随机嵌入电介质SiO2纳米膜层中，在电介质SiO2纳米膜层中形成蜂窝状孔隙结构，且孔隙直径为50~100nm，各孔隙间间距为100~200nm，所述Si纳米层由共聚焦孪生Si靶通过中频电源溅射镀覆在不锈钢基底表面上，形成中频孪生溅射形态。
2.根据权利要求1所述的一种区域表面等离子体增强超薄宽带复合吸收膜，其特征在于，所述Ag+SiO2纳米层由Ag靶和SiO2靶分别通过直流电源和射频电源同时共溅射镀覆在SiO2纳米层表面，且所述Ag+ SiO2纳米层厚度为10~40nm。
3.根据权利要求1或2所述的一种区域表面等离子体增强超薄宽带复合吸收膜，其特征在于，所述SiO2纳米层由SiO2靶通过射频电源溅射镀覆在Ag纳米层表面，且所述SiO2纳米层的厚度为10~30nm。
4.根据权利要求3所述的一种区域表面等离子体增强超薄宽带复合吸收膜，其特征在于，所述Ag纳米层由Ag靶通过直流电源溅射镀覆在Si纳米层表面上，且所述Ag纳米层的厚度为70~110nm。
5.根据权利要求1、2或4所述的一种区域表面等离子体增强超薄宽带复合吸收膜，其特征在于，所述Si纳米层的厚度为150~200nm。
6.根据权利要求1所述的一种区域表面等离子体增强超薄宽带复合吸收膜，其特征在于，所述Ag纳米颗粒的粒径为3-5.5nm。
7.根据权利要求1或6所述的一种区域表面等离子体增强超薄宽带复合吸收膜，其特征在于，所述Ag纳米颗粒在Ag+ SiO2纳米层中的填充率为40-68%。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州龙腾光热科技股份有限公司，未经常州龙腾光热科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820608764.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种可提高靶材利用率的靶座
- 下一篇：一种磁控溅射镀膜机
- 同类专利
- 专利分类
