[实用新型]掩膜条及掩膜板

说明书

本实用新型涉及一种掩膜条及掩膜板，该掩膜条包括本体，所述本体上设置有蒸镀区及两组过渡区，两组过渡区分别沿本体延伸方向相对设置，蒸镀区位于两组过渡区之间，每组过渡区内均设置有多个刻蚀图形，且每组过渡区内的刻蚀图形关于第一中心线轴对称分布，两组过渡区内的刻蚀图形关于与第一中心线垂直的第二中心线对称分布，且每个刻蚀图形均包括应力分散部，应力分散部具有向远离第二中心线方向凸伸的弧形边。上述掩膜条中，通过多个应力分散部分解本体被拉伸时产生的内力。应力分散部的弧形边向远离第二中心线的方向凸出，而掩膜条为了抵抗变形产生的内力指向第二中心线，并在弧形边处被分散减弱，减弱拉伸掩膜条时产生褶皱的现象。

技术领域

本实用新型涉及显示器制备技术领域，特别是涉及掩膜条及掩膜板。

背景技术

目前的显示类型主要包括液晶显示(Liquid Crystal Display,LCD)、有机发光二极管显示(Organic Light—Emitting Diode,OLED)、等离子显示(Plasma Display Panel,PDP)和电子墨水显示等多种。其中，OLED显示器以其轻薄、主动发光、快响应速度、广视角、色彩丰富及高亮度、低功耗、耐高低温等众多优点而被业界公认为是继LCD显示器之后的第三代显示技术，可以广泛用于智能手机、平板电脑、电视等终端产品。

精细金属掩膜(FMM Mask)模式，是通过蒸镀方式将有机发光材料按照预定程序蒸镀到低温多晶硅背板上，利用精细掩模板上的图形，蒸镀红绿蓝有机物到规定位置上。目前的精细掩模板结构通常包括多个平行排列的掩模条以及支撑框架，将每一掩膜条张紧固定于支撑框架上，并且每一掩模条上设置有蒸镀区，蒸镀区内开设有多个用于蒸镀像素材料的像素开口。

在实际生产中，发明人发现，采用现有技术中的精细掩膜板，蒸镀的有机材料与背板上设计的像素位置出现偏差，影响产品的性能。

实用新型内容

基于此，本实用新型提供了一种掩膜条，解决了蒸镀的有机材料与背板上设计的像素位置出现偏出的问题，提高了产品性能。

为实现以上目的，本实用新型提供了一种掩膜条。

一种掩膜条，包括：

本体，所述本体具有第一中心线和第二中心线，所述第一中心线和所述第二中心线均为所述本体的中线，且所述第一中心线与所述本体的延伸方向平行，所述第二中心线与所述第一中心线垂直；

设置于所述本体上的蒸镀区及两组过渡区，两组所述过渡区分别沿所述本体延伸方向相对设置，所述蒸镀区位于两组所述过渡区之间；

其中，每组所述过渡区内均设置有多个刻蚀图形，且每组所述过渡区内的所述刻蚀图形关于第一中心线轴对称分布，两组所述过渡区内的所述刻蚀图形关于所述第二中心线对称分布；所述刻蚀图形包括应力分散部，所述应力分散部具有向远离所述第二中心线方向凸起的弧形边。

上述掩膜条中每组过渡区内的刻蚀图形关于第一中心线轴对称分布，并且两组过渡区内的刻蚀图形关于与第一中心线垂直的第二中心线轴对称分布，保证过渡区在整个本体的对称性，避免因为过渡区的不对称而使掩膜条受力不均而褶皱。

并且，每个过渡区内设置有多个刻蚀图形，每个刻蚀图形包括应力分散部且位于拉伸方向上，通过多个应力分散部分解本体被拉伸时产生的内力，进而可以减小掩膜条张紧时因为拉伸方向受力较大而在拉伸线周围产生褶皱的现象。

当掩膜条受到由第二中心线指向端部的拉力时，掩膜条为了抵抗变形产生会在拉伸方向上产生较大的应力，该应力传递至弧形边处被分散减弱，进而使拉伸方向的应力与其他区域应力之间的差距减小，使掩膜条整体的应力较为均匀，进而减弱张紧掩膜条时产生褶皱的现象，避免蒸镀区内的像素开口伸展程度不同而使像素位置异位，防止蒸镀的有机材料与背板上设计的像素位置出现偏差，提高产品性能。