[实用新型]一种新型抛光设备

说明书

本实用新型提供的一种新型抛光设备包括侧抛光机构，所述侧抛光机构包括移动轨道、移动基座以及一对侧抛光构件，所述移动基座可滑动地安装于所述移动轨道上，所述侧抛光构件分别设置于罐体的两侧，各个所述侧抛光构件包括一对所述侧抛光轮、调节架以及调节座，所述调节座安装于所述移动基座上，所述调节架连接所述侧抛光轮和所述调节座，所述侧抛光轮面向罐体外壁。从而通过侧抛光机构有效调节侧面抛光位置，实现精准移动定位，还适配于不同大小的罐体进行侧面抛光处理。

技术领域

本实用新型涉及抛光技术领域，具体地说，是一种新型抛光设备。

背景技术

罐体在经过各工序的加工成型后，需要对罐体的环焊缝、直焊缝以及罐体表面进行抛光，常用的抛光方法有机械抛光、化学抛光以及电解抛光，机械抛光是用微细磨粒与软质工具对零件表面光饰的加工工艺，抛光过程中磨粒与工件表面的作用有滑擦、耕犁以及切削三种状态，在这三种状态中磨削温度和磨削力是递增的，由于磨粒是附着在软质的基体上，因此在磨削力的作用下磨粒会不同程度的缩回到较软的基体里面，在工件表面上产生微小的划痕，生成细微的切削。由于罐体的尺寸较大，普通的抛光设备无法做到对罐体的全面抛光，尤其是对罐体内外的全方位抛光。机械抛光的抛光精度具有限制性，而光靠化学抛光或者电解抛光无法对大型罐体的表面进行深入抛光处理，导致抛光效果不理想。

发明内容

本实用新型的主要目的在于提供一种新型抛光设备，其通过侧抛光机构有效调节侧面抛光位置，实现精准移动定位，还适配于不同大小的罐体进行侧面抛光处理。

为达到以上目的，本实用新型采用的技术方案为：一种新型抛光设备包括侧抛光机构，所述侧抛光机构包括移动轨道、移动基座以及一对侧抛光构件，所述移动基座可滑动地安装于所述移动轨道上，所述侧抛光构件分别设置于罐体的两侧，各个所述侧抛光构件包括一对所述侧抛光轮、调节架以及调节座，所述调节座安装于所述移动基座上，所述调节架连接所述侧抛光轮和所述调节座，所述侧抛光轮面向罐体外壁。

根据本实用新型的一实施例，所述移动基座安装有移动电机以及移动齿轮，所述移动齿轮啮合于所述移动轨道，所述移动电机连接所述移动齿轮，得以控制所述移动齿轮沿着所述移动轨道转动，带动所述移动基座前后移动。

根据本实用新型的一实施例，所述调节架安装有调节杆，所述调节座的两侧设有多个调节孔，所述调节杆可调节地贯穿所述调节架和所述调节座上的调节孔，所述调节架的底部弹性地安装于所述调节座。

根据本实用新型的一实施例，所述调节孔在所述调节座上由高到低倾斜向外排列。

附图说明

图1是根据本实用新型的一优选实施例的抛光设备的立体图。

图2是根据本实用新型的上述优选实施例的抛光设备的侧视图。

图3A是根据本实用新型的上述优选实施例的抛光设备的示意图。

图3B是根据本实用新型的上述优选实施例的传动构件的局部放大图。

图4是根据本实用新型的上述优选实施例的内抛光机构的结构示意图。

图5是根据本实用新型的上述优选实施例的内抛光机构的立体示意图。

图6是根据本实用新型的上述优选实施例的外圆盘的示意图。

具体实施方式

以下描述用于揭露本实用新型以使本领域技术人员能够实现本实用新型。以下描述中的优选实施例只作为举例，本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。