[实用新型]一种高隔离Ka波段波导功率分配/合成器有效

专利信息
申请号: 201820550407.5 申请日: 2018-04-17
公开(公告)号: CN208368708U 公开(公告)日: 2019-01-11
发明(设计)人: 刘建波;梁云忠 申请(专利权)人: 南京正銮电子科技有限公司
主分类号: H01P5/18 分类号: H01P5/18
代理公司: 江苏圣典律师事务所 32237 代理人: 贺翔
地址: 210000 江苏省南京市*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 功率波导 耦合端子 耦合负载 波导功率分配 本实用新型 耦合空间 高隔离 合成器 腔体 电子工程领域 发射机设计 发射机 隔离作用 矩形波导 连接腔体 隔离度 短路 开路 合成 发射 平衡 吸收
【说明书】:

实用新型公开了一种高隔离Ka波段波导功率分配/合成器,涉及电子工程领域,能够增加了发射机的合成效率,减少了路间干扰,结构紧凑,让发射机设计更小型化。本实用新型包括:第一功率波导、第二功率波导、腔体、耦合端子,耦合负载。第一功率波导和第二功率波导均为矩形波导,分别连接腔体,腔体之间设置耦合空间,耦合空间内设置耦合端子,耦合端子出安装耦合负载。耦合负载既平衡了两个功率波导端口,起到了隔离作用,又可以在其中一路功率波导端口出现开路或者短路时,把发射回的功率进行吸收,提高了两功率波导端口间的隔离度。

技术领域

本实用新型涉及电子工程领域,尤其涉及一种高隔离Ka波段波导功率分配/合成器。

背景技术

由于单个固态功率器件的输出功率不足,功率合成技术是目前研制Ka波段高功率固态功放的唯一技术途径。

在Ka波段,由于介质损耗导致平面合成电路的插损急剧上升,无法实现多路高效合成,因此在合成电路设计中一般采用低损耗的矩形波导或同轴腔体结构来提高合成效率。

在波导合成方式中,一般采用E面、H面的Tee型结构或者是魔T 结构进行合成。

Tee型功率分配/合成器的优点是便于实现,合成效率高;缺点则是通路间隔离小,易相互影响。魔T结构实现功率分配/合成器的优点是路间隔离效果好,合成效率高;缺点是结构较复杂,空间尺寸大。

综上,现有技术中缺乏一种功率分配/合成器,能满足合成效率高、隔离度好,并且结构简单的要求。

实用新型内容

本实用新型提供一种高隔离Ka波段波导功率分配/合成器,能够增加了发射机的合成效率,减少了路间干扰,结构紧凑,让发射机设计更小型化。

为达到上述目的,本实用新型采用如下技术方案:

一种高隔离Ka波段波导功率分配/合成器,包括:第一功率波导 (1)、第二功率波导(2)、腔体(3)、耦合端子(4)、耦合负载(5)。

第一功率波导(1)和第二功率波导(2)均为矩形波导,分别连接腔体(3),组成传统的Tee型波导功率分配/合成器,腔体(3)中间设置一个耦合空间,耦合空间安装耦合端子(4),耦合端子(4)处安装耦合负载(5)。

耦合端子反射信号耦合后背耦合负载吸收,达到第一功率波导与第二功率波导信号隔离的目的,耦合负载的载荷根据反射信号的大小进行选择。

耦合负载既平衡了两个输出端口,起到了隔离作用,又可以在其中一路输出端口出现开路或者短路时,把发射回的功率进行吸收,提高了两输出端口间的隔离度。

本实用新型的有益效果:

本实用新型中的微带耦合端口负载,既平衡了两个功率波导端口,起到了隔离作用,又可以在其中一路功率波导端口出现开路或者短路时,把发射回的功率进行吸收,巧妙应用了微博传输介质切换的设计,提高了两功率波导端口间的隔离度,在具备Tee型功率分配/合成器功率大的基础上,又具有良好的隔离度,并且结构间凑,满足发射机小型化的需求。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为本实用新型的结构图;

图2为本实用新型的电路示意图;

图3为隔离度仿真示意图。

其中,1-第一功率波导、2-第二功率波导、3-腔体、4-耦合端子。

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京正銮电子科技有限公司,未经南京正銮电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820550407.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top