[实用新型]一种钢化后低颜色差异的单银低辐射膜玻璃

说明书

本实用新型公开一种钢化后低颜色差异的单银低辐射膜玻璃，包括玻璃基底，玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层、第一镍铬层、银层、第二镍铬层与第二氮化硅层；第一氮化硅层的厚度为15～35nm、第一镍铬层的厚度为1.5～3nm、银层的厚度为9～15nm、第二镍铬层的厚度为1.5～5nm、第二氮化硅层的厚度为45～60nm；本实用新型合理搭配各膜层厚度，膜系结构合理，膜层稳定，钢化前后颜色变化小，太阳光下玻面反射色肉眼观察几乎完全相同，钢化前后产品可混用于同一工程；本实用新型只需采用常规靶材，利用磁控溅射工艺即可制备，成本低、工艺过程可控、稳定性高。

技术领域

本实用新型涉及功能玻璃技术领域，具体是一种钢化后低颜色差异的单银低辐射膜玻璃。

背景技术

单银低辐射镀膜玻璃，又称LOW-E玻璃，是指在普通玻璃表面通过磁控溅射的方法沉积多层非金属膜与一层金属膜，金属层材料通常选用银，银层作为功能层对红外线有着较高的反射作用，从而起到了一定的隔热保温作用，达到节能损耗的效果。

低辐射镀膜玻璃已普遍应用于建筑及汽车玻璃行业，市面上多数单银低辐射镀膜玻璃几乎都是可钢化产品，但钢化后玻璃面反射色与钢化前差异较大，肉眼可明显区分出颜色差异，不能满足行业需要。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种钢化后低颜色差异的单银低辐射膜玻璃，该玻璃在钢化前与钢化后的颜色差异小，满足工程建设的需求。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种钢化后低颜色差异的单银低辐射膜玻璃，包括玻璃基底，玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层、第一镍铬层、银层、第二镍铬层与第二氮化硅层；

所述第一氮化硅层的厚度为15～35nm、第一镍铬层的厚度为1.5～3nm、银层的厚度为9～15nm、第二镍铬层的厚度为1.5～5nm、第二氮化硅层的厚度为45～60nm。

本实用新型的有益效果是，采用玻璃基底第一氮化硅层/第一镍铬层/银层/第二镍铬层/第二氮化硅层的复合膜系结构，第一氮化硅层与第二氮化硅层作为介质层，第一镍铬层与第二镍铬层作为保护层，并合理搭配各膜层厚度，膜系结构合理，膜层稳定，钢化前后颜色变化小，太阳光下玻面反射色肉眼观察几乎完全相同，钢化前后产品可混用于同一工程；本实用新型只需采用常规靶材，利用磁控溅射工艺即可制备，成本低、工艺过程可控、稳定性高。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明：

图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

实施例一

如图1所示，本实用新型提供一种钢化后低颜色差异的单银低辐射膜玻璃，包括玻璃基底，玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层、第一镍铬层、银层、第二镍铬层与第二氮化硅层；

所述第一氮化硅层的厚度为35nm、第一镍铬层的厚度为1.5nm、银层的厚度为9nm、第二镍铬层的厚度为3nm、第二氮化硅层的厚度为45nm。

各膜层可采用磁控溅射工艺，通入工作气体与反应气体依次溅镀，为了得到更优质的产品，现用表格形式提供磁控溅射时的参数，见表1。

表1

对本实施例得到的产品进行光学检测，结果见表2。

表2

实施例二