[实用新型]一种青绿色可钢化单银低辐射膜玻璃

说明书

本实用新型公开一种青绿色可钢化单银低辐射膜玻璃，包括玻璃基底，玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层、第一镍铬层、银层、第二镍铬层、铬层与第二氮化硅层；第一氮化硅层的厚度为30nm、第一镍铬层的厚度为3nm、银层的厚度为8nm、第二镍铬层的厚度为3nm、铬层的厚度为3nm、第二氮化硅层的厚度为61nm；本实用新型合理搭配各膜层厚度，得到呈现青绿色可钢化单银低辐射膜玻璃，膜系结构合理，满足钢化要求；本实用新型只需采用常规靶材，利用磁控溅射工艺即可制备，成本低、工艺过程可控、稳定性高。

技术领域

本实用新型涉及功能玻璃技术领域，具体是一种青绿色可钢化单银低辐射膜玻璃。

背景技术

在低辐射镀膜玻璃领域，我们称整个膜层结构中只有一层银的产品为单银低辐射玻璃，由于其具有优异的节能效果，响应了国家节能减排政策，目前已普遍应用在建筑玻璃与汽车玻璃行业。

迄今为止，市面上存在的单银产品色系基本以蓝灰为主，产品较为单一，已经不能满足多元化的市场需求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种青绿色可钢化单银低辐射膜玻璃，该产品玻璃面反射色呈现为青绿色，亮度高，颜色清澈，且满足钢化要求。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种青绿色可钢化单银低辐射膜玻璃，包括玻璃基底，玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层、第一镍铬层、银层、第二镍铬层、铬层与第二氮化硅层；

所述第一氮化硅层的厚度为30nm、第一镍铬层的厚度为3nm、银层的厚度为8nm、第二镍铬层的厚度为3nm、铬层的厚度为3nm、第二氮化硅层的厚度为61nm。

本实用新型的有益效果是，采用玻璃基底/第一氮化硅层/第一镍铬层/银层/第二镍铬层/铬层/第二氮化硅层的复合结构，第一氮化硅层与第二氮化硅层作为介质层，第一镍铬层与第二镍铬层作为保护层，合理搭配各膜层厚度，得到呈现青绿色可钢化单银低辐射膜玻璃，膜系结构合理，满足钢化要求；本实用新型只需采用常规靶材，利用磁控溅射工艺即可制备，成本低、工艺过程可控、稳定性高。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明：

图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

如图1所示，本实用新型提供一种青绿色可钢化单银低辐射膜玻璃，包括玻璃基底11，玻璃基底11顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅层21、第一镍铬层22、银层23、第二镍铬层24、铬层25与第二氮化硅层26；

所述第一氮化硅层21的厚度为30nm、第一镍铬层22的厚度为3nm、银层23的厚度为8nm、第二镍铬层24的厚度为3nm、铬层25的厚度为3nm、第二氮化硅层26的厚度为61nm。

各膜层可采用磁控溅射工艺依次溅镀，当溅镀设备本底真空达到10^-6mbar级别时，通入工作气体与反应气体依次溅镀，为了得到更优质的产品，现用表格形式提供磁控溅射时的参数，见表1。

表1

对本产品进行光学检测，结果见表2。

表2

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本实用新型技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰，均仍属于本实用新型技术方案保护的范围内。